2019年的半导体光掩膜市场继续刷新历史新高，与2018年相比同比增长15%，增至4,915亿日元（约人民币294.9亿元）。由于EUV光刻（Lithography）量产工程的导入、以中国为首的新兴企业设计活动的兴起，以及光掩膜自制厂家逐步把EUV光掩膜投入到TSMC等的最尖端的工艺中，导致光掩膜市场出现较大增长。2019年，EUV光掩膜市场规模已超过1,000亿日元（约人民币60亿元）。继最先导入了EUV的“N7+”代之后，TSMC计划在2020年开始量产“N5”。据预测，“N5”有10层以上（是以往的2倍）的EUV层。同样，三星电子也完成了华城地区的EUV专用产线“V1”的建设，且把5nm定位为“反攻”的主要手段，预计未来EUV光刻的消费将会迎来巨大的增长，2020年以后EUV光掩膜还将出现继续增长的趋势。
光掩膜也称为光罩、掩膜版，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，是光刻环节中的关键材料。近年来，国内面板、半导体及PCB电路板市场持续增长，拉动光掩膜市场需求不断上行。据IHS统计，2018年中国光掩膜市场达到全球市场的40%，预计2020年将快速上涨到56%。
点评：目前专业生产光刻掩膜版的厂家主要集中在台湾、日本、韩国等国家和地区，市场集中度高，国内产品仅能满足中低档产品需求。目前国内光掩膜国产化率仅约20%，随着光掩膜下游市场的扩展，国产化替代空间巨大。
清溢光电（688138）公司主营掩膜版的研发、设计、生产和销售，高精度平板显示用掩膜版产品的生产技术已达到国际水平。
菲利华（300395）是国内唯一一家可以生产大规格光掩膜基板的企业。
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