據科技日報報道，武漢光電國家研究中心棕松團隊採用二束激光在自研的光刻膠上突破了光束衍射極限的限制，採用遠場光學的辦法，光刻出最小9納米線寬的線段，實現了從超分辨成像到超衍射極限光刻製造的重大創新。甘棕松團隊自主開發了多類光刻膠，實現了光刻樣機系統關鍵零部件國產化。
光刻機是集成電路生產製造過程中的關鍵設備，主流深紫外（DUV）和極紫外（EUV）光刻機主要由荷蘭ASML公司壟斷生產，屬於國內集成電路製造業的“卡脖子”技術。甘棕松團隊在沒有任何可借鑑的技術情況下，開拓了一條光製造新的路徑，打破了三維微納光製造的國外技術壟斷，在這個領域，從材料、軟件到光機電零部件，都將不再受制於人。 在解決製造速度等關鍵問題後，該技術將有望應用於集成電路製造。
蘇大維格（300331）是國內領先的微納結構產品製造和技術服務商，微納光刻設備已達到國際先進水平，可為光子晶體、半導體功率芯片、MEMS等研發和製備提供前沿性和實用性納米光刻工具。勝利精密（002426）在互動平臺表示，公司光刻機產業化項目建成後主要用於生產光刻機成套裝備，公司具備將業務延伸拓展至光刻機產線整體解決方案的技術實力。
分享到:
閱讀更多 每日股市直播抓牛股 的文章
