針對荷蘭ASML公司推遲供應EUV光刻機的傳聞，中芯國際剛剛也發表了聲明，強調“EUV(極紫外光)還在紙面階段”，目前公司一切運行正常。
根據之前的報道，2018年4月份中芯國際向ASML公司訂購了一臺EUV光刻機，雖然沒有公佈具體情況，但是EUV光刻機售價通常在1.2億歐元，價值將近10億人民幣，是半導體制造過程中最核心也是最耗費成本的裝備。
按照進度來看，中芯國際應該在今年底收到這臺光刻機，明年完成安裝、調試，主要用來研究7nm及以下工藝，並不是用於大規模量產的，一兩年內還達不到這個程度。
對於ASML公司推遲供應EUV光刻機，中芯國際方面下午對媒體表示，“極紫外光(EUV)還在紙面工作階段，未進行相關活動。公司先進工藝研發進展順利。目前，研發與生產的連結一切正常。客戶與設備導入正常運作。”
根據中芯國際Q2季度財報上發佈的消息，14nm已經進入客戶風險量產階段，目前流片數量10多個，今年秋季會正式量產，年底貢獻有意義的營收，不過大規模量產還要到2021年。
14nm之後還有改進型的12nm FinFET工藝，根據中芯國際之前介紹，該工藝相比14nm晶體管尺寸進一步縮微，功耗降低20%、性能提升10%，錯誤率降低20%，也已經進入了客戶導入階段，進展順利，預計年底會有多個芯片流片驗證。
再往後，中芯國際表示還會有第二代FinFET工藝追趕先進水平，預計2020年底會有試驗產能，不僅是有N+1，還會有更先進一代的N+2節點。不過N+1、N+2具體的工藝水平並沒有披露，前者很有可能就是研發中的7nm工藝。
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