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2019年半年報披露：為提升公司後續的發展能力，公司加大了對 193nm 光刻膠和前驅體的研發投入力度，公司研發費用投入比去年同期增加一倍。 公司正在自主創新和產業化的 193nm 光刻膠項目，已獲得國家 02 專項“ 193nm 光刻膠及配套材料關鍵技術研究項目”和“ ArF 光刻膠開發和產業化項目”的正式立項，先後共獲得中央財政補貼 15,101.65萬元，地方配套 5,000 萬元。公司組建了包括高級光刻膠專業人才的獨立研發團隊，建成 1500 平方米的研發中心和百升級光刻膠中試生產線，產品研發進展和成果得到業界專家的認可。目前“193nm 光刻膠及配套材料關鍵技術研究項目”的研發工作已經完成，正在等待驗收。公司設立光刻膠事業部，併成立了全資子公司“寧波南大光電材料有限公司”，全力推進“ ArF 光刻膠開發和產業化項目”的落地實施。預計2019年底在寧波建成一條光刻膠生產線，項目產業化基地建設工作進展順利。
2018年1月12日晚公告，公司與寧波經濟技術開發區管理委員會簽訂投資協議書，公司擬在寧波開發區投資建設高端集成電路製造用193nm光刻膠材料以及配套關鍵材料研發及生產項目，項目總用地面積約86畝，其中一期總投資預計約9.6億元。
公司主要從事光電新材料MO源的研發、生產和銷售，是全球主要的MO源生產商。MO源即高純金屬有機源，是製備LED、新一代太陽能電池、相變存儲器、半導體激光器、射頻集成電路芯片等的核心原材料，在半導體照明、信息通訊、航天等領域有極重要的作用。當前，MO源主要應用於LED領域，公司產品中，三甲基鎵和三甲基銦是最重要、用量最大的兩種MO源。此外，公司還開發成功了三乙基鎵、三甲基鋁、二茂鎂、三乙基銻、四氯化碳、四溴化碳等多種MO源產品。公司作為課題責任單位承擔了"極大規模集成電路製造裝備及成套工藝"專項項目"20-14nm先導產品工藝開發"的課題"ALD金屬有機前驅體產品的開發和安全離子注入產品開發"的開發任務，目前部分產品已經通過客戶的驗證，產品未來將向半導體行業及面板行業進軍。
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