「IC製造」臺積電、英特爾導入EUV 設備材料廠家登營運動能增強

「IC製造」臺積電、英特爾導入EUV 設備材料廠家登營運動能增強

家登董事長邱銘乾(中)表示,受惠極紫外光光罩盒訂單落袋,加上中國市場深耕效益漸顯,12吋前開式晶圓傳送盒大單到手,2018年業績回升。DIGITIMES符世旻攝

半導體設備材料大廠家登董事長邱銘乾29日表示,受惠於”中國製造2025”大戰略,投資新建許多8吋及12吋晶圓廠,強勁帶動半導體產業資本支出擴張,加上5G、挖礦熱潮、區塊鏈興起,半導體對高階納米芯片需求攀升,他對未來半導體產業持續增長看好,家登受惠兩岸12吋廠晶圓新產能開出,12吋前開式晶圓傳送盒(300mm FOUP)大單陸續落袋,加上極紫外光光罩盒(EUV POD)已獲ASML認證,下半年陸續放量,業績可望逐季回升,全年應可繳出獲利成績,2019年業績躍升可期。

家登29日召開股東會,董事長邱銘乾做出上述表示。2009年獲英特爾投資的家登,主要業務包括光罩與晶圓傳載解決方案,目前光罩解決方案佔營收比重逾5成。

為提升生產效率,家登於2017年中,啟動臺灣地區樹谷廠,進行生產基地整合,並持續加強面對國內市場客戶更深的佈局。

邱銘乾表示,半導體產業是一項高資本、高技術密集產業,有著高進入門檻,技術成熟醞釀時間長,家登經歷新廠與開發新技術的重整期,戰略上以聚焦取代發散,與業界材料、設備等相關廠商採取策略聯盟,建立長期夥伴關係,尋求高效率合作模式,以滿足市場對產品效能與支援速度提升的期望,全力提高營運效能,進行產業上中下游整合,深耕中國市場開拓優勢,持續延伸舊有領先地位重新拉高整體毛利率。

邱銘乾進一步指出,家登的主力光罩載具類產品,目前態勢明朗,期待10年之久的極紫外光(EUV)微影技術已正式商用化,半導體大廠對於7納米以下高階製程正逐步推進中,設備購置需求已反應在訂單採購。

9年前,家登即全力投入EUV計劃,最新極紫外光光罩盒已獲ASML的NXE3400機臺認證,並現與多家客戶進行產品認證作業,儘管EUV的量產面臨諸多挑戰,但半導體的細微化,唯有EUV技術能突破製程瓶頸,且較具成本優勢,因此,家登持續看好極紫外光光罩盒預下一波增長需求。

據悉,目前家登極紫外光光罩盒主力客戶為臺積電、英特爾,其他業者仍在洽談中,而在晶圓載具類產品方面,配合“中國製造2025”政策與本地逾20座12吋晶圓廠興建計劃,家登12吋前開式晶圓傳送盒已獲前段大廠認證,增量後段封測廠實績,未來幾年訂單能見度相當明朗。市場預期,隨著12吋前開式晶圓傳送盒訂單陸續到位,極紫外光光罩盒也開始少量出貨,下半年營運動能增強。


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