電鍍生產工藝有很多種，由於電鍍工藝不同，所產生的廢水也各不相同，一般電鍍企業所排出的廢水包括有酸、鹼等前處理廢水，氰化鍍銅的含氰廢水、含銅廢水、含鎳廢水、含鉻廢水等重金屬廢水。此外還有多種電鍍廢液產生。對於含不同類型汙染物的電鍍廢水有不同的處理方法，分別介紹如下：
1.含氰廢水
目前處理含氰廢水比較成熟的技術是採用鹼性氯化法處理，必須注意含氰廢水要與其它廢水嚴格分流，避免混入鎳、鐵等金屬離子，否則處理困難。該法的原理是廢水在鹼性條件下，採用氯系氧化劑將氰化物破壞而除去的方法，處理過程分為兩個階段，第一階段是將氰氧化為氰酸鹽，對氰破壞不徹底，叫做不完全氧化階段，第二階段是將氰酸鹽進一步氧化分解成二氧化碳和水，叫完全氧化階段。
處理工藝流程：含氰廢水→調節池→一級破氰池→二級破氰池→斜沉池→過濾池→回調池→排放
反應條件控制：
一級氧化破氰：pH值10～11；理論投藥量：簡單氰化物CN-:Cl2=1:2.73，複合氰化物CN-:Cl2=1:3.42。用ORP儀控制反應終點為300～350mv，反應時間10～15分鐘。
二級氧化破氰：pH值7～8（用H2SO4回調）；理論投藥量：簡單氰化物CN-:Cl2=1:4.09，複合氰化物CN-:Cl2=1:4.09。用ORP儀控制反應終點為600～700mv；反應時間10～30分鐘。反應出水餘氯濃度控制在3～5mg/1。 處理後的含氰廢水混入電鍍綜合廢水裡一起進行處理。
2.含鉻廢水
含六價鉻廢水一般採用鉻還原法進行處理，該法原理是在酸性條件下，投加還原劑硫酸亞鐵、亞硫酸鈉、亞硫酸氫鈉、二氧化硫等，將六價鉻還原成三價鉻，然後投加氫氧化鈉、氫氧化鈣、石灰等調pH值，使其生成三價鉻氫氧化物沉澱從廢水中分離。
處理工藝流程如下：含Cr6＋廢水→調節池→還原反應池→混凝反應池→沉澱池→過濾器→pH回調池→排放
還原反應條件控制：加硫酸調整pH值在2.5～3，投加還原劑進行反應，反應終點以ORP儀控制在300～330mv，具體需通過調試確定，反應時間約為15-20分鐘。攪拌可採用機械攪拌、壓縮空氣攪拌或水力攪拌。
混凝反應控制條件：PH值：7～9，反應時間：15～20分鐘。
3.綜合重金屬廢水
綜合重金屬廢水是由含銅、鎳、鋅等非絡合物的重金屬廢水以及酸、鹼前處理廢水所組成。此類廢水處理方法相對簡單，一般採用鹼性條件下生成氫氧化物沉澱的工藝進行處理。
處理工藝流程如下：綜合重金屬廢水→調節池→快混池→慢混池→斜管沉澱池→過濾→pH回調池→排放
反應條件一般控制在pH值9～10，具體最佳pH條件由調試時確定。反應時間快混池為20～30分鐘，慢混池10～20分鐘。攪拌方式以機械攪拌最好，也可用空氣攪拌。
4.多種電鍍廢水綜合處理
當一個電鍍廠含有多種電鍍廢水，如含氰廢水、含六價鉻廢水、含酸鹼、重金屬銅、鎳、鋅等綜合廢水，一般採取廢水分流處理的方法，首先含氰廢水、含鉻廢水應從生產線單獨分流收集後，分別按照上述對應的方法對含氰、含鉻廢水進行處理，處理後的廢水混入綜合廢水中與其一起採用混凝沉澱方法進行後續處理。 處理工藝流程如下:
含氰廢水→調節池→一級破氰池→二級破氰池→綜合廢水池
含鉻廢水→調節池→鉻還原池→綜合廢水池
綜合廢水→綜合廢水池→快混池→慢混池→斜管沉澱池→中間池→過濾器→pH回調池→排放
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