03.06 中芯國際購買的ASML光刻機順利進廠,但並未非EUV光刻機

中芯國際購買的ASML光刻機順利進廠,但並未非EUV光刻機

作為國內最大最先進的晶圓代工廠,中芯國際在疫情疫情期間依然沒有停產,同時還在擴大14nm等先進工藝產能。據媒體報道稱,3月4日,中芯國際從荷蘭ASML進口的一臺大型光刻機已順利進入深圳廠區。

中芯國際表示,坪山海關一系列服務措施,保障了設備第一時間進入廠區完成安裝進入生產。而這臺光刻機將主要用於企業復工復產後的生產線擴容。生產線擴容後,全年預計可為企業增加10%左右的營收。

據官網介紹,中芯國際深圳廠區位於深圳市坪山區,一期200mm(8英寸)芯片代工廠可提供從0.35μm到90nm的晶圓製程服務。“深圳廠的成功擴產能夠支持更多200mm產能需求,並滿足日益增長的客戶及市場的需求”。

由於相關報道並沒有提及這次中芯國際購買的光刻機的具體型號,因此也引發了一些猜測。部分網友認為這臺光刻機很可能是中芯國際之前向ASML訂購的最先進的EUV光刻機。但是,實際上這臺機器應該還是193nm波長的DUV系列光刻機。因為,中芯國際方面已經說了,這臺機器是用於現有的生產線擴容。而中芯國際深圳廠區目前所提供的產品主要還是0.35μm到90nm。而EUV光刻機則主要是針對7nm及以下先進工藝的生產。中芯國際訂購EUV光刻機也主要是用來進行先進工藝的試驗和測試。

中芯國際購買的ASML光刻機順利進廠,但並未非EUV光刻機

3月6日下午,中芯國際方面也向媒體證實,該光刻機屬於常規設備導入,並非外界所關心的極紫外光刻機(EUV)。同時,該公司補充道:“EUV光刻機屬重大事件,相關動態將由中芯國際官方發佈。”

早在2018年5月,中芯國際就證實已向荷蘭ASML訂購了一臺最新型的EUV光刻機,價值高達1.5億美元,原計劃在2019年初交付。但是由於美國方面的阻撓,ASML一直未能收到荷蘭政府頒發新的許可證,這也導致了ASML無法向中芯國際交付EUV光刻機。

雖然先進的EUV光刻機進口受阻,不過並沒有影響的中芯國際目前的研發和生產進展。

去年,中芯國際的14nm已經成功量產,並且在去年四季度14nm還獲得了約為769萬美元的營收。今年1月,據Digitimes報導,華為旗下海思半導體公司已經開始向中芯國際14nm工藝下單,將部分原本由臺積電獨家代工的14nm芯片轉由中芯國際代工。

此外,繼2月19日宣佈採購美國泛林公司6億美元設備之後,中芯國際日前又宣佈了11億美元(約合77億元)的大單——將從美國應用材料、日本東京電子公司採購設備。而這也被外界認為,這是要進一步提升14nm工藝的產能。

根據中芯國際預計,在2020年底,14nm晶圓的產能將會是目前的3~5倍,最多能達到15000片/月。

另外,對於後續的先進工藝,在此前的財報會議上,中芯國際聯席CEO梁孟松博士也首次公開了中芯國際後續的N +1、N +2工藝的情況。


梁孟松博士表示,中芯國際的N 1工藝和現有的14nm工藝相比,性能提升了20%,功耗降低了57%,邏輯面積縮小了63%,SoC面積減少了55%。從邏輯面積縮小的數據來看,應該是7nm工藝。梁孟松博士也表示,N +1代工藝在功耗及穩定性上跟7nm工藝非常相似,但性能要低一些(業界標準是提升35%),所以中芯國際的N +1工藝主要面向低功耗應用的。而在N +1之後,中芯國際還會有N +2,這兩種工藝在功耗上表現差不多,區別在於性能及成本,N +2顯然是面向高性能的,成本也會增加。

此外,梁孟松博士還表示,在當前的環境下,N +1、N +2代工藝都不會用EUV工藝,等到設備就緒之後,N +2之後的工藝才會轉向EUV光刻工藝。這也意味著後續的7nm工藝,中芯國際無需EUV光刻機也能實現量產。

至於推出的時間,在此前的財報當中,梁孟松博士有提到會在2020年底開始試產,而真正的量產可能要等到2021年了。


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