受疫情和出行限制,ASML再次延遲向中芯國際交付EUV光刻機!

有媒體報道,中芯國際向ASML訂購的光刻機一而再的被阻礙。年11月份,有媒體報道,受到了美國的壓力ASML將暫停向中芯國際供貨。今年1月份,ASML CEO對外表示,已經向荷蘭政府提交了中國客戶出貨的申請,但一直在審批。

受疫情和出行限制,ASML再次延遲向中芯國際交付EUV光刻機!


其實中芯國際早在2018年中旬向ASML訂購的這臺EUV光刻機,價格為1.2億美元,預計在2019年底交付,2020年正式安裝,但如今ASML始終沒有交付。

受疫情和出行限制,ASML再次延遲向中芯國際交付EUV光刻機!


ASML首席執行長Peter Wennink表示:“到目前為止,Covid-19的爆發對ASML的生產能力影響有限,此外,從客戶的角度來看,今年我們的系統需求沒有減少。”

受疫情和出行限制,ASML再次延遲向中芯國際交付EUV光刻機!


他解釋說,第一季度的短缺背後有三個關鍵的影響。第一起事件與延遲向武漢運送更傳統的深紫外線(DUV)光刻設備有關,武漢是新型冠狀病毒爆發的最初中心,那裡的運輸和旅行限制已經實施了數月。

Peter Wennink補充道:“其次,我們的供應鏈出現了一些問題,目前已經得到了解決。再加上第一款NXE:3400C (EUV)最終配置的週期比最初計劃的要長,這導致了一些發貨延遲。”

中芯國際的7nm以下製程將使用ASML供應的這臺EUV光刻機,目前中芯14nm已經進入量產,12nm也已經有了重大突破。

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之前中芯國際聯席CEO梁孟松博士首次公開了中芯國際N+1、N+2代工藝的情況,透露N+1工藝相比於14nm性能提升20%、功耗降低57%、邏輯面積縮小63%,SoC面積縮小55%,之後的N+2工藝性能和成本都更高一些。總之,即便中芯國際的N+1工藝在性能上還有一定差距,但是國產的7nm級工藝今年底就會問世了。


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