我國稀貴金屬濺射靶材製備打破壟斷相關公司迎契機(附股)

昆明貴金屬研究所下屬的雲南省貴金屬材料重點實驗室研發團隊,近期在電子信息產業用稀貴金屬濺射靶材的關鍵製備技術及工程化應用研究中取得重大突破,成功研發出系列稀貴金屬賤射靶材。

我國稀貴金屬濺射靶材製備打破壟斷相關公司迎契機(附股)

我國稀貴金屬濺射靶材製備打破壟斷相關公司迎契機(附股)

點評:稀貴金屬薄膜是在電子信息產業起核心支撐作用的戰略性材料,濺射靶材是製備薄膜的關鍵材料源,濺射靶材已成為製備集成電路的核心材料之-一 。據預測,未來5年,世界濺射靶材的市場規模將超過160億美元。此次我國稀貴金屬濺射靶材製備問世,打破在日本、美國、德國等國家長期壟斷地位,實現了替代進口並出口至美國著名半導體公司,國內濺射靶材企業的成長空間被打開。相關個股:貴研鉑業(600459)半導體器材鎳鉑靶材製備關鍵技術實現重大突破,建成了年產000片鎳鉑靶產品示範生產線,產品出口至美國。江豐電子(300666) 是全球高純金屬濺射靶材領先企業。

我國稀貴金屬濺射靶材製備打破壟斷相關公司迎契機(附股)


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