超分辨光刻机技术实现大突破!中国芯片或将打破外国66年垄断?

日前新华社发布了一篇文章,文中提到国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机完全由中国自主研制,分辨率达到了22纳米,未来还能用于制造10纳米级别的芯片。

首先我们要了解,22纳米的水准是大概是在一个什么样的水平。世界上中流位置,首先国外最先进的7纳米成熟,5纳米,3纳米攻关。我们的是多少?22纳米,不要小看就差那么点!物理的极限就在那,就像压垮骆驼的是最后那根稻草!另外,就算目前的纳米尺寸达到了,还要达到一定的晶圆板尺寸,现在国外达到16寸,据说我们这设备就是人家的1/4水准。什么意思呢?就是说即使在22纳米这水平工艺上,我们的生产产品的成本是人家的3到4倍(如果可一次类比的话),所以目前还不能商业化。

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但是退一步说,虽然我们生产的是22nm光刻机,与人家的的差距还很大。可重点在于这是我们自己拥有的知识产权。这套技术是我们自己研发的。在未来继续潜心研究,一定会打破外国长达66年的技术垄断!这样我们就可以不受制于外国的胁制。前段时间中兴的事件就是因为受外国专利技术的壁垒,没有自己的这套技术而受制于人。

就像碳纤维飞机刹车片,我国用了20年才打破国外垄断,而光刻机只用了8年。说明基础科研领域的垄断相当恐怖,突破封锁所需的时间将远远超过应用研究领域。一个国家在基础研究领域不强,将很难成为科技强国。

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要想迅速提高中国的科技水平,购买国外的成型产品进行拆解研究是一方面。高待遇引进高精尖的有真水平(注意,是真水平)的中外籍专家在中国成立研究所(所出成果所有权属中国)来研究探索是一方面。提高各相关科技大学的教研水平又是必须的一步。政府外派优秀留学人员出去研学得到真本领回国研发又是一步。合作开发,资源共享,共同创造,一起分享是最佳方式。

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有网友认为,我们引进外资开放四十年搞建设,现在最有效的办法就是引进科技开放二十年,在中国划出科技特区。让世界顶尖的科技研究所都到中国来,世界顶尖科技人才也到中国特区来,这样,在交流中快速学习,不但让世界进步,也让中国科技一飞冲天。经济特区还要有,但科技特区的时代到来了!

中国人想做成的事情,一定能做成,这是中华民族的韧性!这一点是不允许有任何怀疑的,中华民族的复兴之梦一定会成功的。

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