類金剛石薄膜又稱山膜。碳的一種亞穩態，組成主要是碳，也含有氫，其量隨工藝條件而異，最多時可達20%。類金剛石具有很高的硬度、高導熱性、高絕緣性、良好的化學穩定性、從紅外到紫外的高光學透過率等。這與金剛石相似，但其性能數值均低於金剛石膜。類金剛石膜已開始用作耐磨塗層。
類金剛石碳（DLC）是非晶結構，碳原子主要以sp3和sp2雜化鍵結合。含氫DLC又稱為α-C:H，其中氫含量在20%到50%之間。無氫類金剛石膜包括無氫非晶碳（α-C）和四面體非晶碳（ta-C）膜。α-C膜含有一些sp3鍵；ta-C膜中以sp3鍵為主（sp3>70%）。
結構
類金剛石薄膜通常又被人們稱為DLC薄膜，是英文詞彙Diamond Like Carbon的簡稱，它是一類性質近似於金剛石，具有高硬度.高電阻率.良好光學性能等，同時又具有自身獨特摩擦學特性的非晶碳薄膜。碳元素因碳原子和碳原子之間的不同結合方式，從而使其最終產生不同的物質.
分類
類金剛石薄膜（DLC）是1種非晶薄膜，可分為無氫類金剛石碳膜(a-C)和氫化類金剛石碳膜(a-C：H)兩類。
無氫類金剛石碳膜有a-C膜(主要由sp3和sp2鍵碳原子相互混雜的三維網絡構成)，以及四面體非晶碳(tetrahedral carbon，簡稱ta-C)(主要由超過80％的sp3鍵碳原子為骨架構成)；
氫化類金剛石碳膜(a-C：H)又可分為類聚合物非晶態碳(polymer—like carbon，簡稱PLC)、類金剛石碳、類石墨碳3種，其三維網絡結構中同時還結合一定數量的氫.
類聚合物非晶態碳是含氫金剛石薄膜的一種它是非晶體又有類似於聚合物那種通過相同簡單的結構單元通過共價鍵重複連接而成的化合物。這種類金剛石薄膜因為sp2鍵佔據了主要數量，所以比較軟，又不具備石墨的特性，使得它的用途受到了限制，在摩擦學的應用上還處在起步階段。
類金剛石碳膜（diamond-likecarbon films，簡稱DLC膜），是含有類似金剛石結構的非晶碳膜，也是我們在這裡真正需要介紹的一種。DLC膜的基本成分是碳，由於其碳的來源和製備方法的差異，DLC膜可分為含氫和不含氫兩大類。DLC膜是一種亞穩態長程無序的非晶材料，碳原子間的鍵合方式是共價鍵，主要包含sp2和sp3兩種雜化鍵，在含氫DLC膜中還存在一定數量的C-H鍵。我們從1996年起開始磁過濾真空弧及沉積DLC膜研究，正在完善工業化技術。如等離子體源沉積法、離子束源沉積法、孿生中頻磁控濺射法、真空陰極電弧沉積法和脈衝高壓放點等。不同的製備方法，DLC膜的成分、結構和性能不同。
類金剛石碳膜（Diamond-likecarbon films，簡稱DLC膜）作為新型的硬質薄膜材料具有一系列優異的性能，如高硬度、高耐磨性、高熱導率、高電阻率、良好的光學透明性、化學惰性等，可廣泛用於機械、電子、光學、熱學、聲學、醫學等領域，具有良好的應用前景。我們開發了等離子體-離子束源增強沉積系統，並同過該系統中的磁過濾真空陰極弧和非平衡磁控濺射來進行DLC膜的開發。
該項技術廣泛用於電子、裝飾、宇航、機械和信息等領域，用於摩擦、光學功能等用途。目前在我國技術正處於發展和完善階段，有巨大市場潛力。
類石墨碳是含氫類金剛石中的最後一類，它具有類似於石墨的特性，sp2在含量較高在百分之七十左右。現代，類金剛石碳膜因同時具有高硬度和低摩擦係數而引起廣泛關注, 然而, 它與工業中常用的鐵基材料存在“觸媒效應” ,即, 鍍的刀具在加工黑色金屬的過程中高硬度砂鍵會轉化成軟的護鍵, 使耐磨性急劇下降, 因此限制了它的應用範圍年限, 柳襄懷等採用離子束輔助沉積功技術製備出了用於滿足電磁功能要求的“石墨化” 的膜年, 提出存在高硬度“碳結構”，其後,英國及公司採用全封閉非平衡磁控濺射製備出了高硬度碳膜專利一鍍層閱研究表明一以砂結構為主, 在與鋼鐵材料摩擦時未出現“觸媒效應” 且硬度適中、摩擦係數小、比磨損率較低一個數量級, 具有極其優越的摩擦學性能碳膜的結構和性能很大程度上與其製備工藝有關方法便於控制輔助轟擊參數以改變鍍層的結構, 磁控濺射沉積速率較高, 可製備厚鍍層，此類碳膜既非又非普通石墨, 暫稱之為類石墨碳膜。
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