不必再等EUV光刻機！中芯國際全新工藝誕生，有信心衝刺7nm！提起芯片製造企業，我們第一個想到的會是臺積電，緊隨其後的便是中芯國際。的確，中芯國際還是一個很年輕的企業，成立時間甚至不超過二十年，但中芯國際取得的成就我們也是有目共睹的，近年來，中芯國際在芯片的製程工藝上不斷取得進步，一路高歌猛進，甚至擠入了全球芯片代工行業的前三甲，這是十分值得我們驕傲的事情。
無疑，中芯國際的成功給中國半導體行業帶來了很大的希望，因為在此前，中國半導體行業發展完全依靠政府大量的資金投入，而中芯國際這家企業卻很好的採用“市場化運作”闖出了一片天。從28nm到14nm，再到現在的7nm工藝，如果不是荷蘭ASML公司未能及時交付EUV光刻機，可能中芯國際現在已經取得了更大的成就。
就在前不久，中芯國際CEO梁孟松帶來了一個好消息，那就是中芯國際不用再等EUV光刻機了，因為現在中芯國際完全用能力憑藉自己突破7nm工藝的障礙。並且梁孟松還表示，中芯國際在2020年很可能會跳過10nm工藝，直接衝擊7nm大關。
值得一提的是，目前中芯國際已經成熟地掌握了14nm工藝，並且14nm芯片也已投入大規模生產。另外，中芯國際還宣佈了一個好消息，那就是中芯國際自主研發的N+1和N+2工藝將取代EUV光刻機完成7nm工藝，在這種工藝下生產出來的芯片，其性能提升了20%，功耗更是減半，此外，芯片的邏輯面積和SoC面積均有大幅下降，這完全符合業內7nm製程工藝的標準。
目前，N+1工藝和N+2芯片還處於研發階段，中芯國際正計劃對N+1工藝芯片進行試產，這意味著中芯國際將成為世界上第三個掌握7nm工藝的芯片代工企業。梁孟松還透露，在N+1工藝成熟後，中芯國際還將對N+2工藝進行進一步探索，該種工藝下的芯片性能將得到進一步提升。
此外，在中低端芯片上中芯國際也沒有放下，目前第一代FinFET工藝也就是14nm工藝已經成功實現量產，中芯國際下一步的計劃是推進第二代FinFET工藝（12nm工藝）的研發進程。在取得諸多成就之後，中芯國際很好地向國際證明了一個問題，那就是即便沒有ASML公司提供的光刻機，“中國芯”一樣能夠破繭而出，耀眼世界。
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