近日，一條新聞引爆了整個中國半導體行業，那就是來自荷蘭的光刻機成功抵達中芯國際位於廣東深圳的工廠。目前，中芯國際並未對外透露這臺光刻機的具體細節。首先可以肯定的是這臺光刻機並不是極紫外光刻（EUV），很多人猜測，這是一臺波長為193nm的深紫外光刻機，簡稱DUV。
此前，中芯國際曾從荷蘭ASML公司下單購買EUV光刻機，但由於各種原因，這臺光刻機一直未能交付成功，2020年3月，一臺DUV光刻機抵達我國深圳，雖然這不是最高級的EUV光刻機，但也足以製造23nm至7nm之間的芯片了，這對中芯國際、對中國半導體行業來說依然是一個好消息。
據中芯國際CEO梁孟松透露，中國芯國際在去年年底就已經實現了14nm芯片的量產，並且於今年年初從臺積電手裡“搶走”了華為公司的大單。我們都知道，華為手機目前處於高速發展階段，出貨量非常龐大，對芯片的需求自然也非常大，此次到來的DUV光刻機將大大提高中芯國際的產能，這對華為，對中芯國際來說是一個雙贏。
眾所周知，光刻機是芯片生產的重要裝備，在半導體行業內，光刻機尤為重要，可惜的是，目前最先進的光刻機都由一家荷蘭公司壟斷，那就是阿斯麥爾公司。由於美國的阻撓，中國大陸一直難以獲得其最先進的EUV光刻機，這嚴重妨礙了我國芯片製造行業的發展，然而，我國中芯國際還是在“逆境”下迅速崛起了，荷蘭公司也不得不做出讓步，這次的DUV光刻機就是一個很好的說明。
據梁孟松透露，目前中芯國際已經成功研發出了N+1以及N+2工藝，這種“黑科技”能夠幫助中芯國際完成7nm芯片的生產，為此，中芯國際決定跳過10nm工藝階段，直接從14nm工藝跨越到7nm工藝。
從2015年開始，中芯國際就一直在14nm製程工藝上進行探索，如今，中芯國際14nm級芯片的良品率已經達到了95以上，這意味著中芯國際完全可以承接華為的中低端芯片訂單，而7nm作為一個重要節點，相信在中芯國際徹底拿下7nm甚至5nm工藝後，華為和中芯國際兩公司強強聯手，必將實現新的飛躍。
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