臺積電5nm工藝進展順利,預計Q2正式量產

臺積電5nm工藝進展順利,預計Q2正式量產

報道稱,臺積電主要的5nm製程生產基地——Fab 18廠房施工已完成,機器正陸續進駐測試,預計今年第二季度即可量產5 nm製程晶圓。

臺積電官網的介紹,5nm工藝是該公司第二代極紫外光(EUV)技術的芯片工藝,具有良好的成像能力,預計也會有更好的晶圓良品率。

事實上,關於臺積電5nm量產事宜,臺積電CEO魏哲家在上週的2019年Q4財報分析師電話會議上透漏了進度。

“與已經量產近兩年的7nm工藝不同,臺積電目前還未開始大規模生產5nm工藝的芯片,但臺積電在5nm方面已研發多年,去年就已開始試產。”魏哲家指出,目前臺積電的5nm量產進展順利,良率也已很好,將在上半年大規模量產。

據Q419財報數據顯示,2018年率先量產的7nm工藝,已為臺積電帶來了93億美元的營收。臺積電表示,量產在即的5nm芯片的產能或許在2020年為公司貢獻10%的營收。不過除5nm芯片外,臺積電仍未停止研發的腳步。據悉,臺積電正在研發全新的3nm芯片,這種更先進的工藝預計將在2022年實現初期生產。可見未來幾年內,7nm芯片以及5nm芯片都將是主流。

魏哲家認為,在2020年,業界領先的7nm工藝和5nm的強勁需求,將有利於臺積電的業務增長,他還表示:“我們將繼續通過5nm工藝解決方案改善芯片的性能、能耗和晶體管密度,而且我們有信心5nm將是公司除了7nm外的另一項大的、長期的工藝。”


分享到:


相關文章: