荷蘭ASML公司今天發佈了2019年Q1季度財報，當季營收22.3億歐元，毛利率41.6%，淨利潤3.55億歐元。Q1季度中ASML公司出貨了4臺EUV光刻機，比前一個季度少了1臺，不過好消息是ASML下半年會推出新一代EUV光刻機NXE：3400C，這款光刻機的產能將從每小時125片晶圓提升到170片每小時，意味著半導體制造廠的EUV產能會大幅增加，這對三星、臺積電來說是個好消息。
根據ASML的財報，Q1季度該公司營收22.89億歐元，其中服務費用5.4億歐元，設備淨銷售額16.89億歐元，EUV光刻機營收佔了22%，當季出貨4臺EUV光刻機，而2018年Q4季度出貨了5臺EUV光刻機，畢竟Q1季度是淡季，而且各大廠商今年也放緩了半導體投資步伐。
目前ASML出貨的EUV光刻機為NXE：3400B型號，每小時處理器的晶圓數不低於125片（125 wph），而今年下半年他們將會推出NXE：3400C光刻機，每小時處理器的晶圓數不低於170片（170 wph）。我們之前介紹過，光刻處理是半導體芯片製造工藝中最複雜的一步，耗時最多、同時也是成本最高的一個過程，佔了整個芯片製造成本的1/3左右，所以光刻處理的效率極大地影響著半導體芯片的產能及成本。
從125 wph到170 wph，產能將會提升36%，也就是說一下子就提升了三分之一的產能，這對今年內量產7nm EUV工藝的臺積電、三星來說是個重大利好。
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