據中國臺灣地區媒體報道，臺積電正在加速推進3nm製造工藝的落地進度，晶圓廠方案已經獲得臺灣主管部門批准。
3納米工藝2020年動工？臺積電加速推進
據悉，臺積電計劃在2020年啟動3nm晶圓廠的建設工作，在2021年進行試產，最終在2022年實現量產，從而對競爭對手實現工藝製程上的領先。
目前來看，3nm晶圓廠需要解決資源消耗等問題，例如UV光刻機的耗電難題，3.5nm的紫外光容易被吸收，轉換率只有0.02%。也就是說，ASML的EUV光刻機一天可能會消耗3萬度電。
可以預見的是，隨著2019年臨近，搭載7nm工藝芯片的手機品牌會越來越多，不過在3nm正式到來之前，5nm的試產工作會承擔起過渡任務，這也是臺積電正投入去做的。
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