晶片的未來發展
2020年因為突發的疫情，許多行業發展都不是很好，甚至有的行業因此面臨破產，我國電子行業也是如此。尤其是電子行業。在眾多電子產業設計中，最難的可以說是打造手機的電子晶片了。最近幾年，因為晶片的問題，我們國家的科技企業也頻頻遭遇瓶頸期，不少國產的商家也開始準備佈局一下晶片自主研發，儘管現在國產晶片自主研發已經開進了高速車道，但是跟國際頂尖巨鱷還存在著非常大的差距，因為一直以來我們國家都沒有先進的光刻機設備。
光刻機建設的危機
大家都知道的，晶片的設計的開發與光刻機是分割不開的，尤其是先進製程工藝的晶片，但是全球先進光刻機市場中ASML是最大的。在此之前中芯國際也花了大價錢購買了一臺先進的光刻機，然而現在因為美國的原因，ASML光刻機沒有辦法順利進入我們國家。也給我們國家7nm和更先進的製程工藝晶片的發展帶來更加嚴峻的挑戰，要知道我們國家可以大批生產的光刻機還停留在90nm階段，比ASML光刻機落後了十幾年，由此可見的差距是有多大，這也表明我們國家加強光刻機建設迫在眉睫。
光刻機有辦法解決了
儘管中芯國際表示可以不使用光刻機就能夠研發出7nm工藝，但5nm乃至更先進製程工藝晶片產品絕對離不開光刻機，如果沒有光刻機就意味著我們國家在未來的晶片競賽中將落後對手一步，日後就很有可能被對手欺負。 然而，近日我們國家傳來好消息，光刻機的問題可以得到有效解決。
我國電子產業有救了
據悉，上海微電子公司已經成功取得突破，其成功藉助紫外線光源實現22nm分辨率，這推動國產光刻機的發展朝前邁進一大步，該技術一旦成熟就意味著我們國家22nm光刻機即將問世，這樣一來將推動國產晶片實現進一步的發展，同時也給其他光刻機制造商帶來信心，有助於推動更多廠商攜手努力共同建設國產光刻機，提高我們國家在國際市場上的競爭力。
雖說我國在光刻機的領域取得了不錯的進展，但是想要擺脫國外的技術還需要繼續努力。不管多難，我們國家企業都不能放棄，光刻機的自主研發是一個漫長的過程，日後還需要不斷努力，爭取將核心技術和供應鏈全都掌握在自己手中，期待日後國產光刻機能夠在國際市場中取得更好的成績，讓我們國家的晶片在國際市場上名揚四方。
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