为什么国产晶片受到了前所未有的困难？

晶片的未来发展

2020年因为突发的疫情，许多行业发展都不是很好，甚至有的行业因此面临破产，我国电子行业也是如此。尤其是电子行业。在众多电子产业设计中，最难的可以说是打造手机的电子晶片了。最近几年，因为晶片的问题，我们国家的科技企业也频频遭遇瓶颈期，不少国产的商家也开始准备布局一下晶片自主研发，尽管现在国产晶片自主研发已经开进了高速车道，但是跟国际顶尖巨鳄还存在着非常大的差距，因为一直以来我们国家都没有先进的光刻机设备。

光刻机建设的危机
大家都知道的，晶片的设计的开发与光刻机是分割不开的，尤其是先进制程工艺的晶片，但是全球先进光刻机市场中ASML是最大的。在此之前中芯国际也花了大价钱购买了一台先进的光刻机，然而现在因为美国的原因，ASML光刻机没有办法顺利进入我们国家。也给我们国家7nm和更先进的制程工艺晶片的发展带来更加严峻的挑战，要知道我们国家可以大批生产的光刻机还停留在90nm阶段，比ASML光刻机落后了十几年，由此可见的差距是有多大，这也表明我们国家加强光刻机建设迫在眉睫。

光刻机有办法解决了
尽管中芯国际表示可以不使用光刻机就能够研发出7nm工艺，但5nm乃至更先进制程工艺晶片产品绝对离不开光刻机，如果没有光刻机就意味着我们国家在未来的晶片竞赛中将落后对手一步，日后就很有可能被对手欺负。 然而，近日我们国家传来好消息，光刻机的问题可以得到有效解决。

我国电子产业有救了
据悉，上海微电子公司已经成功取得突破，其成功借助紫外线光源实现22nm分辨率，这推动国产光刻机的发展朝前迈进一大步，该技术一旦成熟就意味着我们国家22nm光刻机即将问世，这样一来将推动国产晶片实现进一步的发展，同时也给其他光刻机制造商带来信心，有助于推动更多厂商携手努力共同建设国产光刻机，提高我们国家在国际市场上的竞争力。

虽说我国在光刻机的领域取得了不错的进展，但是想要摆脱国外的技术还需要继续努力。不管多难，我们国家企业都不能放弃，光刻机的自主研发是一个漫长的过程，日后还需要不断努力，争取将核心技术和供应链全都掌握在自己手中，期待日后国产光刻机能够在国际市场中取得更好的成绩，让我们国家的晶片在国际市场上名扬四方。