自主研發光刻機和建設對撞機,如果二選一,您選擇哪個?

科技創客243294038


從現實角度出發顯然是光刻機的研發更重要,對撞機這種物品只能是未來的產物,短期來說對我們並沒有太多的實際意義。

1、光刻機成為我國半導體行業的攔路虎

隨著科技的發展越來越多的設備需要各種芯片,因此這2年我國的半導體行業也發展迅猛,但在這種高速增長中我們顯然是遇到了很大的攔路虎,也就是光刻機。

沒有光刻機我國的芯片代工廠就無法生產高製程的高端芯片,類似我們最常用的手機芯片就無法進化到5nm這個製程。如果國外惡意封鎖光刻機出口的話,不要說最先進的製程,就是普通10nm、28nm這樣芯片可能也難以製造。

因為,國產光刻機現階段只能量產90nm製程機型(見下圖),剩下的更好的製程都得依靠國外的光刻機,高端的更是隻能依賴荷蘭ASML的光刻機。

而且光刻機是個系統工程,不僅僅是光刻機系統製造商一家的工作,需要整個產業鏈的配合,因此這塊的研發投入也是相當大的,沒有大量資金的支持很難在短期內實現突破。

因此,如果你讓我選擇的話,肯定是將研發資金砸向整個光刻機項目,包括整個配套產業鏈。這樣我們未來的半導體行業才不會受制與人,才會更為快速的發展,為我們提供更好的生活。

2、對撞機太燒錢且短期無用

對撞機的核心功能是為了發現粒子,也的確能對理論物理的發展提供新的方向,為人類文明打開新的世界。但是任何事物都是有輕重緩急,我們處理工作時基本上也都按照這個原則來操作。

對撞機的確是一項很重要的功能,但並不是當前急需要的工作,如果真的現在就上這個項目那麼就會大大減少在其他領域上的資金投入,比如光刻機。而且對撞機的資金需求據說達到了200億美元,摺合下來就是1400億元RMB,將這種天量的資金投給我們的半導體行業不好嗎?

國家半導體大基金第二期投入的資金總計才2000元,這還是針對整個半導體行業的,分配到各個項目能拿到的就更少了。如果拿去造了對撞機,估計就更沒錢投了。

此外,對撞機其實是國際項目,我們花錢製造完成後,未來在具體使用上可不完全由我國獨享,其他國家科學家也是可以使用的,這也就意味著花了我們鉅額資金結果我們只是給他人做嫁衣。當然,給全人類做貢獻是挺偉大,但在我們還未發達之前還是慢慢做貢獻,先解決我們自己的衣食住行,不受制於人才是更重要的。

Lscssh科技官觀點:

綜合上述內容,我當下的選擇就是先研發光刻機,等哪天我們成為全球第一併且各行各業都很發達完善時,可以考慮下人類文明的進化,拿出點錢來建造個對撞機給世界各國科學家玩玩。



Lscssh科技官


光刻機太重要了。如果真的上天有靈可以讓我們選擇發展成功一個自主研發產品,那麼肯定是光刻機,芯片是未來萬物互聯社會的根本,光刻機就是芯片的命脈之一。看看荷蘭EUV光刻機對我國的態度,就可以明白一個大概

不過,悲劇的是,即使我們國家用百億投資研發光刻機,短期都不可能研發成功,這個是所有芯片企業心中的痛。


芯片可以說是未來科技興國的立國之本,電子對撞機太虛無縹緲,我認為不算是必選項,美國自己也沒有建設這種大型的對撞機,超大型的對撞機對基礎物理學無疑是有用的,但是面對中國的現狀有沒有必要,這就很難說了。


對於電子對撞機,楊振寧先生是極力反對的,楊振寧先生是世界物理學界的泰斗,百年最偉大的物理學家可以排名前20,而且是唯一一個還健在的偉大科學家。楊振寧先生一直致力於推動我國基礎物理學科的研究

建造大型的對撞機至少要花費360億元以上,甚至會超過千億,美國就是認為代價太大所以放棄了建設。楊老認為我國當務之急並不是花費千億玩科技投資比賽,這很容易成為下一個“星球大戰”計劃,事實證明歐美早期建設的對撞機的成果也僅僅是有限的驗證,我國當務之急是提升基礎科技實力,而不是投入巨資在高能物理上彎道超車。


作為科學家本應該是對科學瘋狂的,但是楊老的意見很理智的說明了一個現狀,我們國家需要什麼?是需要腳踏實地的解決影響未來科技發展的主要矛盾,還是要在基礎物理學爭上游?

其實答案很明確,花巨資建立對撞機,不會為我們國家未來帶來什麼好的發展,該被卡脖子一樣被卡,但是如果能縮短光刻機的差距,我們國家的未來將不會再有太大的掣肘。


IT老菜鳥


    我覺得兩百億美金用來大力發展光刻機和芯片技術,所獲得的的收益遠大於結果虛無縹緲的電子對撞機。我也非常贊同楊振寧教授的看法“與其把這一大筆錢用來發展高能物理,不如撥給一些前景光明,更能提高人民生活水平的項目”。

    大型強子對撞機

    一種將質子加速對撞的高能物理設備,方便科學家探索新的粒子和微觀量化粒子的“新物理”機制設備。

    目前,全球最大的對撞機位於歐洲,也是人類迄今建造的最大最複雜的科學設備,歷時15年,耗資52億美元。建設大型強子對撞機,一個國家的力量是遠遠不夠的,大約有80多個國家的7000名科學家和工程師參與了這項好大的工程。

    如此耗大的工程,貫穿了瑞士和法國的邊境,主要的部分位於法國,整個設備大部分位於地下。大型強子對撞機絕對稱得上是當前最複雜的高科技設備,將尖端數學、物理、化學等學科融為一體。


    光刻機

    光刻機是生產芯片的關鍵設備,無論是手機處理器,還是電腦、服務器處理器,以及各類存儲設備都離不開光刻機。

    目前,最先進的光刻機來自於荷蘭的ASML,最先進的EUV光刻機只有荷蘭能夠生產。一臺頂級的光刻機,同樣是全球智慧的結晶,有來自美國的計量設備、德國的鏡頭、瑞典的軸承、法國的閥件等等。一臺頂級的EUV光刻機有3萬多個零件,13個系統組成,要將誤差分擔這13個系統,可以說是神乎其技了。


    我國最先進的光刻機來自於上海微電子,量產90nm製程工藝的光刻機,而荷蘭ASML的光刻機可以實現5nm製程工藝,有至少15年~20年的差距。我國的中芯國際早在2018年就成功預訂了一臺荷蘭ASML的光刻機,然而受到了各方面的“阻力”,至今未收到這臺光刻機。

    其實,上海微電子的光刻機與荷蘭ASML光刻機的差距,反映了我國與西方發達國家在精密製造領域的差距,製造光刻機的關鍵零部件對我國是禁運的。


    總之,發展光刻機,帶動整個光刻機的產業鏈,相比大型對撞機來說,更靠譜一些,帶來的經濟效益也更好。

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