據美國電子材料市場調查公司TECHCET調查顯示，主要的G-Line/I-Line、DUV光刻膠2020年的市場規模繼2018年之後會再次超過16億美元（約112億元）。EUV光刻膠的市場規模在2020年超過1000萬美元（約7000萬元），到2023年年平均增長率預計達到50%以上，但從當前的EUV光蝕刻膠的整體市場來看，EUV光刻膠的佔比不足1%。
從全球市場份額來看，光刻膠市場主要由日本、美國、韓國企業所把控。東京應化、JSR、住友化學、富士膠片分別佔據27%、13%、12%、8%的市場份額，陶氏化學佔據17%的市場份額，韓國東進佔據11%的市場份額。
細分到高端的KrF、ArF光刻膠領域，行業的壟斷格局更為明顯。在ArF光刻膠方面，JSR、信越化學、東京應化、住友化學、富士膠片、陶氏化學分別佔據24%、23%、20%、15%、8%、4%的市場份額。在KrF光刻膠方面，東京應化、信越化學、JSR、陶氏化學、韓國東進、富士膠片分別佔據35%、22%、18%、11%、6%、5%的市場份額。幾大供應廠商的市佔率合計均超過90%。
在EUV光刻膠方面，具備專利佈局的前十大企業中，日本公司佔有七席，並且富士膠片、信越化學、住友化學排名前三位，其專利申請數量大幅領先其他公司，體現日本在EUV光刻膠領域具備十分明顯的技術優勢。
光刻膠作為集成電路製造關鍵材料，要求企業具備光化學、有機合成、高分子合成、精製提純、微量分析、性能評價等技術，具有極高的技術壁壘。半導體產業要繼續摩爾定律，芯片集成度要繼續提高，要求光刻膠材料和光刻技術持續革新。
根據中信證券測算，預計至2023年，全球IC光刻膠市場規模可達約178億元，其中我國光刻膠市場規模約43億元。同時浙商證券預計2022年國內半導體光刻膠市場將會是2019年的兩倍，約55億元。屆時世界面板產能持續向中國轉移，國內面板光刻膠市場需求預計約為105億元，二者合計將帶來約160億元的市場空間。
而細分到具體的光刻膠品種，我國高端光刻膠國產化率仍有較大的提升空間。無論是出於保障關鍵材料自主可控的考量，還是降低企業生產成本的驅動，光刻膠國產化都具有強烈的訴求。當前，我國半導體領域的G-Line、I-Line光刻膠基本可以滿足自給。其中G-Line光刻膠曝光波長463nm，分辨率可達0.5μm；I-Line光刻膠曝光波長365nm，分辨率可達0.35μm。兩者主要用於6英寸晶圓的集成電路製造。而更為高端的KrF、ArF光刻膠，我國則幾乎全部依賴進口，國產化率存在極大的提升空間。
當前，光刻膠市場主要由日本企業所把持，而相較於日本企業，我國的差距主要體現在幾方面：
（1）技術上，光刻膠的生產需要具備光化學、有機合成、高分子合成、精製提純、微量分析、性能評價等技術，需要長期的技術積澱，我國進入光刻膠領域時間尚短，與日本企業存在差距。此外，光刻膠的大量專利掌握在海外企業手中，構成了極高的技術壁壘。
（2）人才上，我國光刻膠人才梯度尚未構建完全，在國內產業鏈還未成熟的情況下，仍較為依賴海外的技術專家和人才團隊。
（3）資本上，高端光刻膠的前期研發需要大量的資金投入，海外集團型公司往往通過其他業務進行支持，而國內企業相對規模較小，需支持。
（4）原材料上，光引發劑、樹脂等光刻膠重要原材料領域，日本同樣具備較高的壟斷程度，我國光刻膠原材料依賴進口。
儘管我國光刻膠領域與國外巨頭仍存在不小的差距，但國內一批優秀的龍頭公司仍舊在積極投入研發，以晶瑞股份、南大光電等在“02專項”的扶持下已經分別具備i線光刻膠產能規模優勢和ArF光刻膠研發突破優勢，伴隨著晶瑞股份KrF光刻膠、南大光電ArF光刻膠研發完畢，順利完成客戶驗證，國產光刻膠將迎來國產替代的黃金時代。
中信證券認為，伴隨我國晶圓產能不斷建設，行業重心向國內轉移，我國光刻膠市場不斷擴容，國產化訴求強烈。我國光刻膠在低端應用領域已基本滿足自給，在高端產品方面仍待突破。期待龍頭公司突破高端光刻膠受制於人的局面，使光刻膠國產化由低端走向高端，並實現最終完全的自主可控。
國海證券表示，半導體光刻膠技術壁壘最高，全球市場高度集中，目前國內僅有五家企業進行半導體光刻膠的生產與研發。分別為晶瑞股份、北京科華微電子、南大光電、容大感光與上海新陽技術含量高的國內光刻膠企業有望迎來發展良機。
浙商證券指出，日本為半導體材料供應大國，疫情影響進出口貿易，將有可能導致“斷鏈”危機。國內疫情控制效果明顯，各個晶圓廠已經進入全面復工復產期，需求端全面復甦。2020-2022年是中國大陸晶圓廠投產高峰期，以長江存儲，長鑫存儲等新星晶圓廠和以中芯國際，華虹為代表的老牌晶圓廠正處於產能擴張期，未來3年將迎來密集投產。國內新建晶圓廠的密集投產為光刻膠打開了最佳代替窗口。
中銀證券指出，在我國成熟製程、14nmFinFET、存儲廠紛紛建產後，光刻膠作為集成電路光刻工藝的關鍵材料，未來的市場需求將步入高速增長。但目前國內晶圓廠的光刻膠大部分依賴於TOK、信越、DOW等國際品牌，國產化品牌北京科華、瑞紅在I-line光刻膠和KrF光刻膠有所突破，南大光電、上海新陽在ArF光刻膠有佈局。光刻膠儘管市場規模小，但是光刻工藝中一種重要的半導體材料，自主可控離不開光刻膠國產化，強烈看好半導體設備與材料，光刻膠產業鏈關注晶瑞股份、南大光電、上海新陽、強力新材、飛凱材料。
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