新萊應材:光刻機領域有機會可以使用到我司的真空系統產品

同花順(300033)金融研究中心4月1日訊,有投資者向新萊應材(300260)提問, 公司產品是否可用於光刻機?7nm以下的製程是否實現國產替代?

公司回答表示,光刻機領域根據結構圖紙是有機會可以使用到我司的真空系統產品,我們也一直努力試圖跟 ASML 接觸,同時也希望能透過真空技術與國內其他廠家配合製作科研級光刻機並逐步推展到半導體市場。7nm以下的製程是否實現國產替代這個我們不是很瞭解,但我們的產品可以用於 7nm 以下的乾式刻蝕製程。感謝您對公司的關注,謝謝。


分享到:


相關文章: