【研究報告內容摘要】
核心觀點：
薄膜沉積設備：半導體制造環節中的重要設備。半導體制造中的薄膜沉積是指任何在硅片襯底上沉積一層膜的工藝，這層膜可以是導體、絕緣物質或者半導體材料。薄膜沉積有化學和物理工藝之分，具體而言可分為化學氣相沉積(CVD，15%，Gartner統計的2018年佔半導體制造設備比重數據，下同)、物理氣相沉積(PVD或濺射，4%)、其他沉積(3%)三大類。按2018年Gartner的劃分，CVD中管式CVD佔18%、非管式低壓CVD佔16%、原子層沉積ALD佔16%、等離子體CVD(包括PECVD和HDPCVD)佔49%；其他沉積中，電鍍佔27%、MOCVD佔31%、外延佔37%、旋塗絕緣介質SOD佔2%。
下游需求與技術演進帶來沉積設備市場增長。從行業空間來看，薄膜沉積設備一方面長期受益全球半導體需求增加與產線產能的擴充，另一方面受益於技術的演進帶來的增長機遇，包括製程進步、多重曝光與3DNAND存儲技術。根據SEMI的統計，2018年全球半導體設備達到645.3億美元，其中晶圓處理設備為502億美元，其中計算可得2018年CVD設備和其他沉積設備的全球市場規模分別達85.1億美元和42.7億美元。
壁壘高企，國外廠商佔據沉積設備絕大部分市場。根據Gartner2018年的數據，CVD前三大廠商應用材料、Lam和東京電子佔據全球74%的份額，PVD僅應用材料一家就佔據了74%的份額，其他沉積設備前三大廠商應用材料、Lam和Aixtron佔據67%的份額。國內設備廠商中佔有一定份額的是北方華創(PVD佔比1.4%)和中微公司(其他沉積佔7%，主要為MOCVD設備)。
國內沉積設備迎來技術與訂單突破，持續受益國產替代機遇。國內集成電路沉積設備主要廠商為北方華創和瀋陽拓荊，近年來兩家公司分別在技術儲備以及客戶認證方面取得良好進展。北方華創官網與年報顯示，公司PVD設備應用跨越90納米至14納米的多個技術代，12寸PVD、ALD以及LPCVD設備進入集成電路主流代工廠。瀋陽拓荊官網顯示其PECVD、ALD上具有一定進展，其中12英寸PECVD設備，可用於40-28納米集成電路的生產，並具有14-5納米技術的延伸性。根據中國招標網，2018年中標長江存儲PVD訂單一共2臺，均來自北方華創，2019年12臺PVD中也有1臺來自北方華創。同時2019年17臺PECVD中有4臺來自瀋陽拓荊。
投資建議。建議關注北方華創(PVD)、瀋陽拓荊(CVD，未上市)和中微公司(MOCVD，參股瀋陽拓荊)。
風險提示。技術更新換代風險；下游投資不及預期風險；專利風險等。
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