隨著近幾年國家對知識產權的重視，國內企業對於提升專利核心競爭力方面也愈發重視，紛紛加強了專利工作，專利申請量大幅增加的同時，也更為注重專利質量，但是在專利申請過程中，仍存在誤區，需要早日改進。
誤區一：
產品投入大規模生產後才申請專利
很多企業都有這樣的想法：技術方案還未投入生產，也沒有產品問世，此時申請專利為時過早，等產品大規模投入生產後再申請專利更合適。
但其實專利申請的基礎不應該是已經在市場上存在的產品，也不一定是已經成型的產品。
只要有了切實可行的想法，就可以著手專利申請文件的撰寫了。
誤區二：
專利產品的改進不需再申請專利
有部分發明人認為申請了一項專利後，就可“高枕無憂”，從而忽視了後期的繼續研發工作，即使開發出了新產品或有了新改進，也不再申請專利。
這種錯誤認識的後果不異於未申請專利。
因為當他人對該產品有了改進並申請專利，反過來就限制了原專利權人產品的更新換代，這就會導致企業在不經意間反而變成侵權方。
誤區三：
技術方案交待不清楚
很多企業的發明人提交的技術交底書非常簡單，有的甚至只有幾句話，技術方案完全沒有交待清楚，這給專利代理人制作正式專利申請文件帶來很大困難。
專利代理人在要求發明人提供更多的技術方案時，他們會以技術保密為由迴避，表明這些發明人沒有把握好保密與公開的度。他們只是一味要求保密，害怕多透露技術信息，而恰恰忽視了公開不充分的問題。
誤區四：
先發表論文或成果鑑定再申請專利
有些發明人取得研究成果後急於發表文章或成果鑑定，而沒有想到先申請專利保護。
發表文章或成果鑑定不可避免地要公開技術內容，會導致的專利申請失去新穎性而得不到保護。
誤區五：
一個產品僅僅申請一個專利
有的申請人或者發明人認為，一個產品只需要申請一個專利即可，要麼是發明專利，要麼是外觀專利或者實用新型專利。
這其實是對專利有誤解所致。專利分為發明專利、實用新型和外觀專利三種，保護的側重點並不一樣。
發明專利主要針對創造性較強的專利，產品工藝方法或者產品結構等等，一般需要兩年左右獲得授權。
實用新型則是針對產品的結構方面申報保護，一般8個月左右獲得授權。
外觀專利則是針對產品的外觀申請，一般3個月獲得授權。
同一個產品，完全可以申請多個專利，產品外形、結構或者工藝方案如有不同，具有足夠的創造性和新穎性，就能同時申請多類型或者多個專利，從不同角度獲得授權保護。
誤區六：
專利申請前不做任何檢索
有些發明人提交的專利申請文件沒有做查新檢索，無法確定技術方案的新穎性，根本不知道其技術方案是否公開過，授權前景岌岌可危。
同時，專利質量和權利要求的範圍，也無法得到保障，專利新申請的價值也會大打折扣。
因此在專利新申請之前，一定要對技術方案進行查新檢索，不做任何檢索就直接提交申請，只是浪費時間、金錢和精力。
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