2002年SMEE成立，中國為研發光刻機立項；
2009年上海微電子裝備有限公司（即SMEE）研發出中國最先進的90nm光刻機，並進行投產銷售；
2018年11月29日中國科學院光電技術研究所研發的22nm光刻機通過驗收。超分辨光刻裝備項目的順利實施，打破了國外在高端光刻裝備領域的壟斷，為納米光學加工提供了全新的解決途徑，也為新一代信息技術、新材料、生物醫療等先進戰略技術領域，基礎前沿和國防安全提供了核心技術保障。
我們在自豪的同時，也要認清一個事實：ASML最新的第五代光刻機使用波長更短的13.5納米極紫外光（EUV），用於實現14納米、10納米、及7納米制程的芯片生產。在技術上，我們還有很遠的路要走！
上海微電子裝備有限公司90nm光刻機
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