光刻机的两大核心技能
光刻机有两大最核心技能：一个是EUV曝光体系，另一个是双工件台。EUV曝光体系，我国还比较落后，主要是长春光机所在主导研制，经8年的艰苦研制，现在能造32纳米芯片的EUV曝光体系现已研制成功。尽管还不先进，但我国现已建立了完善的EUV曝光体系关键技能的完好研制渠道。而双工件台，我国取得了重大突破，成为全球第二个把握这个技能的国家。
光刻机的双工件台和单工件台的区别
双工件台是高端光刻机两大最核心技能的其中一个。现在只需荷兰ASML量产了，我国也现已出了两台样机，美国和日本都还没有这个技能。美国和日本把握的单工件台，它的出产速度只需不幸的每小时80片，而双工件台，它的出产速度居然可以高达每小时270片~300片。功率一个天上一个地上。这也是为什么荷兰ASML的光刻机这么贵，仍可以强占90%以上的全球光刻机市场份额，双工件台的优势，是一个十分重要的原因。
我国光刻机双工件台的实力
我国65纳米干式光刻机，现已取得6台订单。而需要双工件台的浸没式光刻机，现已出来两台样机，但真实的交付给客户的首台时刻，要比及2019年。双工件台的研制，是彻底自主知识产权，取得了4.2亿的国家补助，只需钱够，我国的研制实力仍是很强壮的。我国的光刻机双工件台，其实就只需荷兰一个竞争对手。
光刻机双工件台，被称为超精密技能皇冠上的明珠，精度要求十分高，而且是高速运动的。我国双工件台在高速运动的情况下，也能到达2纳米的运动精度，现已挨近荷兰双工件台的精度。
我国高端光刻机的短板
荷兰ASML现已彻底垄断了高端光刻机的技能。荷兰是仅有一个现已量产EUV光刻机的国家，并彻底把握两大最核心技能，其光刻机的曝光镜头有德国的强力支撑，可以出产3纳米的芯片，并且全球首先支撑双工件台。
而EUV曝光体系就是我国高端光刻机的短板，日本的曝光体系，可以支撑20纳米的芯片出产，比我国的32纳米要先进不少。但日本的高端光刻机双工件台的还没有研制成功，因为在两大核心技能方面都远远落后荷兰ASML，现在日本现已抛弃了更高端光刻机的研制。也就是说，全球只需我国没有抛弃追逐荷兰ASML，没有抛弃研制20纳米以下的高端光刻机。
只需我国有耐性，够坚持，补足高端光刻机的技能短板。在5年内，就有机会造出抢先美日仅次荷兰的高端光刻机，在10年~15年内能大成。
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