Intel 10nm+终于稳了!台积电向1nm发起冲锋号

转载:硬件世界 作者: 上方文Q

年初的CES大展上,Intel公开宣布了代号Tiger Lake下一代移动平台,采用增强版10nm+工艺制造,集成Willow Cove CPU架构、Xe GPU架构,并深入强化AI。

当时的说法是Tiger Lake将在今年晚些时候推出,按惯例要到年底圣诞购物季才会有大量新笔记本上市,不过在近日的财务会议期间,Intel CEO司睿博又确认,Tiger Lake将在今年年中的某个时间提前登场,而且有超过50款Tiger Lake笔记本将在年底购物季上架。

司睿博称:“(Tiger Lake)将是一个伟大的产品,我们对此非常激动。”

Intel 10nm+终于稳了!台积电向1nm发起冲锋号

他还表示,Intel 10nm工艺的产能提升是令人鼓舞的,Tiger Lake到发布前的库存量将是Ice Lake同期的两倍,以避免供应短缺,这也可以证明Intel 10nm产能进步有多么大。

经过这几年的转变,Intel正在重回当年的Tick-Tock战略,即每两年交替升级架构和工艺。按照司睿博的最新说法,Intel 10nm会在2021年底之前都是主力,然后在2021年第四季度转向7nm,同时继续大力投资晶圆生产,以便随时向客户交付足够的库存。

另外,Intel还确认,10nm Ice Lake服务器处理器正在出样,将在第四季度正式发布。

Intel 10nm+终于稳了!台积电向1nm发起冲锋号

非常迷你的Ice Lake主板:中间两颗芯片大的是Ice Lake,小的是芯片组

自从1998年推出i740独显之后,Intel已经在高性能GPU市场上消失了22年了,今年他们要凭借10nm工艺的Xe显卡杀回市场。现在的问题是Intel需要面对AMD及NVIDIA两大对手,刚一上来免不了要拼性价比。

Intel的GPU项目进行了多年了,2018年挖来了前AMD RTG部门主管、首席GPU架构师Raja Koduri,打造了Xe架构,这一个架构能够满足从低功耗核显到数据中心GPU在内的多个市场需求。

Intel 10nm+终于稳了!台积电向1nm发起冲锋号

Intel之前已经明确,2020年就会推出首款显卡,除了Tiger Lake处理器的Gen12核显首发Xe架构之外,今年CES之后已经有代号DG1的独显公测。

根据之前泄漏的信息,DG1独显拥有96组EU执行单元,一共是768个核心,基础频率1GHz,加速频率1.5GHz,1MB二级缓存以及3GB显存,TDP为25W。

如果来和i7-1065G7的Gen11核显来对比,在流处理器数量上多了50%,加速频率则是1.5GHZ对1.1GHz,提升了36%。

推测下来,DG1的性能与GTX950相当,比GTX 1050则差了15%左右。

不过现在的DG1独显明显是低功耗市场的,25W TDP并非针对桌面市场的,正常来说入门级独显TDP功耗也会在50-75W之间,是当前限制的2-3倍,意味着DG1桌面版的性能还会大幅提升。

从不同的爆料来看,DG1显卡的性能下限是GTX 950级别的,但性能上限应该可以摸到GTX 1650这样的千元级显卡

如果解决了性能这个坎,下一道考验就是定价了,对Intel这样芯片毛利率通常不能低于60%的公司来说,抢攻新市场恐怕要放低姿态。

基于此,TH网站日前预测Intel首款独显的价格应该在120-150美元之间,而且性能要达到或者超过GTX 1650、RX 5500 XT这样的显卡才行。

总之,Intel杀入GPU市场之后,作为新手,为了获得市场认可,显然要拼性价比了,尽管这并不是他们的作风。

Intel 10nm+终于稳了!台积电向1nm发起冲锋号

说起半导体工艺,经常能听到摩尔定律已死的观点,但何时才是尽头呢?

我们现在使用的半导体大部分是硅基电路,问世已经60年了,多年来都是按照摩尔定律2年一次微缩的规律发展,但它终究是有极限的。台积电在突破5nm、3nm及未来的2nm之后,下一步就要进军1nm工艺了。

根据台积电的规划,今年会量产5nm工艺,2022年则会量产3nm工艺,2nm工艺已经在研发中了,预计会在2024年问世。

2nm之后呢?台积电在日前的股东大会上也表态,正在研究2nm以下的工艺,正在一步步逼近1nm工艺。

1nm工艺不仅仅是这个数字看上重要,它还有更深的含义——1nm级别的工艺有可能是硅基半导体的终结,再往下走就需要换材料了,比如纳米片、碳纳米管等等,2017年IBM领衔的科研团队就成功使用碳纳米管制造出了1nm晶体管。

硅基半导体工艺的极限其实一直在突破,之前的说法中,10nm、7nm、5nm、3nm甚至2nm都被当做过硅基工艺的极限,现在来看还是一步步被突破了,如果不考虑台积电、三星在工艺命名上的营销套路的话。

在2019年的Hotchips会议上,台积电研发负责人、技术研究副总经理黄汉森(Philip Wong)在演讲中就谈到过半导体工艺极限的问题,他认为到了2050年,晶体管来到氢原子尺度,即0.1nm。

关于未来的技术路线,黄汉森认为像碳纳米管(1.2nm尺度)、二维层状材料等可以将晶体管变得更快、更迷你;同时,相变内存(PRAM)、旋转力矩转移随机存取内存(STT-RAM)等会直接和处理器封装在一起,缩小体积,加快数据传递速度;此外还有3D堆叠封装技术。

Intel 10nm+终于稳了!台积电向1nm发起冲锋号

遗憾的是,就在人家冲击个位数工艺的时候,我们的双位数还在被卡脖子。

作为国内最大的晶圆代工企业,中芯国际今年的一项重要工作就是加速14nm国产化,此前传闻已经开始给华为代工麒麟710A处理器。不过他们也被美国的“专利流氓”盯上了,不得不反击。

去年12月20日美国IFT(Innovative Foundry Technologies LLC)公司在德州发起对中芯国际、博通、赛普拉斯及迪斯四家公司的专利诉讼,指控这些公司侵犯了他们4项专利权,要求赔偿。

IFT公司2017年才在美国成立,他们是一家NPE(Non-Practicing Entity,非专利执行实体)公司,本身不从事实际产品制造、生产、销售,而是靠各种渠道获得的专利来发起诉讼,靠打官司赚钱。

由于NPE专利公司这样的模式,所以他们中很多都被认为成为“专利流氓”,就是找各种公司碰瓷,用专利诉讼向业界知名的公司索赔,IFT也是这样。

根据IFT所说,他们持有125项专利,多数都是与集成电路及封装技术有关的,从2019年2月份开始就发起过多次诉讼,联发科、台积电、高通的公司都被他们告过,并向美国ITC联邦贸易委员会发起337调查,给上述公司施压,不然就要被美国禁止。

去年底,IFT公司开始向中芯国际等四家公司发起专利诉讼,不过中芯国际选择了强硬回击,日前向美国法院提出了确认不侵权之诉,要求法院直接确认中芯国际及其子公司的行为不侵犯IFT所持有的美国专利号为:6580122、6806126、6933620、7009226 的4项专利的专利权。

提出不侵权之诉是需要底气的,要确保自己确实没有侵犯对方的专利,而中芯国际这样做显然也是希望尽快摆脱诉讼,避免耗下去,这类诉讼拖的越长,对专利流氓这样的公司越有利。

Intel 10nm+终于稳了!台积电向1nm发起冲锋号


分享到:


相關文章: