自日本於2019年7月開始限制向韓國出口用於半導體和顯示器生產的三種關鍵材料——高純度氟化氫、氟聚酰亞胺和光刻膠以來，韓國企業一直在尋求將其本地化，以減少該國對日本的依賴。其中一些半導體原材料已經本地化，或將在今年上半年由韓國公司生產。
韓國貿易、工業和能源部於1月2日表示，一家韓國公司已將高純度氫氟酸溶液本地化，這是日本政府列入出口管制項目清單的材料之一。該公司將在不久的將來向韓國芯片製造商提供高純度氫氟酸溶液。
韓國芯片製造商主要依賴日本公司生產純度為99.9999999999%（12個9）的高純度氫氟酸溶液，其中雜質僅為整個溶液的萬億分之一。高純度氫氟酸溶液主要用於半導體制造過程中的晶圓蝕刻。
韓國化學材料公司Soulbrain在公州新建了一家工廠，並於去年下半年開始生產氫氟酸溶液，目前，Soulbrain生產氫氟酸溶液的能力翻了一番。因此，提供韓國半導體制造商所需氫氟酸溶液的三分之二已成為可能。這也是自日本開始對這三個半導體材料實施出口管制以來，韓國首次實現本地化生產。
一位業內人士表示：“據我瞭解，Soulbrain已準備好滿足三星電子和SK海力士等韓國半導體生產商對高純度氫氟酸溶液的需求。”。
此外，氣態高純氟化氫（蝕刻氣體）和氟聚酰亞胺薄膜的本地化也在進行中。據報道，SK集團旗下的SK Materials公司計劃在今年上半年開始供應高純度氟化氫氣體。
氟聚酰亞胺薄膜用於生產柔性顯示器件。一家在韓國的外國化工公司預計不久將建成一座新工廠並開始生產該產品。
然而，光刻膠的本地化似乎還有很長的路要走。韓國政府一位官員表示，由於韓國半導體行業沒有大量使用光刻膠，因此韓國正尋求通過供應商多元化而不是大規模本地化來降低對日本的依賴。三星電子通過比利時等繞行路線，進口了繪製10nm以下電路圖所需的EUV光刻膠。日本政府在2019年12月批准了一次EUV光刻膠出口，允許三星電子在不受任何干擾的情況下生產產品。
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