用戶提問來自：cninfo450847
據報道，公司自主研發的光刻機從設計、組裝以及所用軟件的開發，均由本公司自主完成，主要用於柔性電子、MEMS以及半導體上游器件等產品的研發與製造？請問是否屬實？
董秘回覆：
您好，感謝您對本公司的關注。公司通過自主研發製造高端微納裝備光刻機，自制微納結構模具，進行微納結構產品生產，光刻機設計、組裝以及所用軟件的開發，均由本公司自主完成。公司的微納光刻直寫設備主要用於柔性電子、MEMS以及特定領域半導體等產品的研發與製造，具有非接觸、自動對準套刻、支持翹曲襯底圖形光刻的先進功能，尤其為今後超穎材料、裸眼3D顯示、光子晶體、半導體功率芯片、MEMS等研發和製備等方面，提供了前沿性和實用性納米光刻工具。感謝您的關注！
2019年11月11日 17:01
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