国产光刻机"困局"：滞留90nm工艺，中国企业严重依赖ASML公司

编辑按：不久前，荷兰ASML公司断供中芯国际，7nm光刻机的消息引发了很多人的讨论。不少人认为，在这个国产芯片发展的关键时期，缺少高端光刻机，对未来芯片行业的发展是十分不利的。还有很多网友提到了中国可以自主发展光刻机产业，摆脱对进口产品的依赖。其实，中国不是没有自主光刻机企业，但是因为技术落后，没有办法 满足国产芯片行业的发展。

众所周知，如今在移动端采用的最先进的工艺是7nm工艺，如今只有台积电等寥寥几家代工企业有掌握。即便是中芯国际，也是刚刚实现了14nm芯片的量产，7nm工艺还在路上。所以，在去年它才会向荷兰ASML公司，订购一台7nm光刻机，售价超过1.2亿美元。那么，国产光刻机企业到底发展到了哪一步呢？

说到这里，可能有不少朋友会认为，至少也应该是28nm或者是40nm吧？恐怕最终的答案，可能会让阅读这篇文章的朋友，都有所失望。目前，中国性能最强且最先进的光刻机产品，就是90nm而已，这是由国内一家位于上海的微电子企业所打造的。除此之外，国产光刻机产业再无强有力的产品。

其实，纵观中国光刻机行业的发展历史，其实中国企业在这个领域，也一度发展的很好。根据资料显示，第一台国产光刻机产品，在上个世纪70年代末期就已经研制成功了。当时，国产工艺距离国外顶尖工艺的差距，也就在20年左右，努把力还是有希望能够弯道超车的。此后的发展，也确实证明了这一点，只要中国人想干，就没有做不成的事情。

光刻机产业发展到80年代初，其实已经初具规模，很多单位和企业，研发出了很多成功的光刻机产品。在当时，中国光刻机行业的整体水平，距离当时的日本工艺，也不过4年而已，简直就是近在咫尺。不过，在后来的80年代末期，由于很多事件的影响，才让国产光刻机产业拖慢了20年左右。

直到现在，随着中国开始重视芯片产业、重视光刻机行业，相关的领域才开始重新崛起。不过，即便如此，我们还是应当正视同发达国家之间的技术差距。不要说同荷兰的ASML公司，即便是同日本一些光刻机企业相比，也是有很多不足。所以，如今很多国产芯片企业对ASML的光刻机产品非常依赖，比如说前文提到的中芯国际。

虽然国产光刻机行业发展缓慢，技术也相对落后，但是经过几代人的努力，还是有不少的成果问世。其中有110nm工艺、280nm工艺，同时也包括前文提到的90nm工艺。不过，中国光刻机企业还是应该努力，向更高的水平去进发，只有这样才能保证国产芯片企业，不在以后的行业竞争中太过被动。

编辑观点：短期内，国产28nm、16nm这些高端光刻机，想要研制成功是不太可能的事情，这需要一个技术积累。但是，笔者相信，只要中国想做，就没有做不成的事情。就像如今的芯片行业，也涌现了很多知名的企业。说了这么多，你对国产光刻机行业有什么样的看法呢？