等離子清洗機的工藝氣體如何選擇

等離子清洗機是將氣體電離產生等離子體對工件進行表面處理，無論是進行清洗還是表面活化，為達到最佳的處理效果我們會選用不同的工藝氣體，那麼等離子清洗機的常用工藝氣體有哪些，又該如何選擇呢？今天就為大家分享一下相關基礎知識，供大家參考。

CRF PLASMA

等離子清洗機常用的工藝氣體有氧氣 (Oxygen, O2)、氬氣 (Argon, Ar)、氮氣 (Nitrogen, N2)、壓縮空氣 (Compressed Air, CDA)、二氧化碳 (Carbon, CO2)、氫氣（hydrogen, H2）、四氟化碳（Carbon tetrafluoride, CF4）等。

O2

1 氧氣

氧氣是等離子清洗常用的活性氣體，屬於物理+化學的處理方式，電離後產生的離子體能夠對錶面進行物理轟擊，形成粗糙表面。同時高活性的氧離子能夠與被斷鍵後的分子鏈發生化學反應形成活性基團的親水錶面，達到表面活化的目的；被斷鍵後的有機汙染物的元素會與高活性的氧離子發生化學反應，形成CO、CO2、H2O等分子結構脫離表面，達到表面清洗的目的。

氧氣主要應用於高分子材料表面活化及有機汙染物去除，但不適用於易氧化的金屬表面。

真空等離子狀態下的氧等離子呈現淡藍色，部分放電條件下類似白色。放電環境光線比較亮，肉眼觀察時可能會出現看不到真空腔體內有放電的情況。

O2

2 氫氣

氫氣與氧氣類似，屬於高活性氣體，可以對錶面進行活化及清洗。氫氣與氧氣的區別主要是反應後形成的活性基團不同，同時氫氣具有還原性，可用於金屬表面的微觀氧化層去除且不易對錶面敏感有機層造成損壞。所以在微電子、半導體及線路板製造行業使用較廣。

因氫氣為危險性氣體，未被電離時與氧氣匯合會發生自爆，所以在等離子清洗機中通常是禁止兩種氣體混合使用的。

真空等離子狀態下氫等離子呈紅色，與氬等離子類似，要相同的放電環境下比氬等離子顏色略深。

N2

3 氮氣

氮氣電離形成的等離子體能夠與部分分子結構發生鍵合反應，所以也是一種活性氣體，但相對於氧氣和氫氣而言，其粒子比較重，通常情況下在等離子清洗機應用中會把此氣體界定在活性氣體氧氣、氫氣與惰性氣體氬氣之間的一種氣體。在清洗活化的同時能夠達到一定轟擊、刻蝕的效果，同時能夠防止部分金屬表面出現氧化。

氮氣與其他氣體組合形成的等離子體通常會被應用於一些特殊材料的處理。

真空等離子清洗機

真空等離子狀態下氮等離子也是呈紅色，在相同的放電環境下，氮等離子會比氬等離子和氫等離子更亮一些。