別再等EUV光刻機了！中芯國際N+1工藝計劃投產，成本大幅降低！據悉，在今年的3月6日，我國中芯國際公司向荷蘭ASML公司訂購的光刻機終於抵達位於深圳的廠區，然而，這次光刻機雖然是來了，但依然不是我們心心念唸的那個EUV光刻機，很多人認為，沒有EUV光刻機，我國就無法突破最新的芯片工藝，如果大家還抱著這個想法，那就是大錯特錯了，實際上，我們現在完全不用去等中芯國際向我們“施捨”EUV光刻機，因為中芯國際已經研發出了全新的工藝。
早在去年年底，中芯國際CEO梁孟松就對外透露，目前中芯國際已經成熟地掌握14nm FinFET 製程工藝，並開始計劃14nm中端芯片的量產，此外，梁孟松還透露中芯國際最新研發出了N+1和N+2工藝，這兩種工藝非常接近目前最為流行的7nm工藝，其中N+1工藝計劃於2020年正式投產，這個消息無疑像一枚重磅炸彈掀翻了我國半導體行業。
據悉，中芯國際最新研發的N+1工藝相比自家研發的14nm工藝成本更低，而且最重要的是，這種工藝無需光刻機就能夠生產出7nm芯片！梁孟松表示，相比上代芯片工藝，N+1工藝生產出的芯片在性能上有著20%的提升，同時，功耗更是得到了大幅下降，不僅如此，SoC面積和邏輯面積更是減半，這也就也意味著，中芯國際的N+1工藝其實完全可以媲美臺積電的7nm工藝，只是在性能上還差一丟丟。
近日，中芯國際又宣佈N+1工藝在不久後將正式投產，這種工藝能夠以更低的成本製造出更優良的芯片，另外，由於成本降低，搭載N+1工藝芯片的手機或將成為新一代的“性價比之王”。此外，中芯國際負責人表示該公司目前還在大力攻克N+2工藝技術上的難題，一旦成功，這種工藝幾乎可以和7nm EUV工藝平起平坐，甚至說可以佔到10%的優勢。
梁孟松還透露，雖然N+1工藝沒有用到ASML的極紫外光刻機，也無需進口任何昂貴設備，但N+2工藝還是需要EUV光刻機進行技術支持的。中芯國際目前正計劃先逐步完善N+1技術，然後再進一步探索N+2技術，另外，中芯國際目前還在與ASML公司進行商談，並有望拿到真正的EUV光刻機。
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