芯片製造基礎知識:芯片研發過程介紹


芯片製造基礎知識:芯片研發過程介紹


1、芯片研發基本過程 一款芯片的設計開發,首先是根據產品應用的需求,設計應用系統,來初步確定應用對芯片功能和性能指標的要求,以及哪些功能可以集成,哪些功能只能外部實現,芯片工藝及工藝平臺的選擇,芯片管腳數量,封裝形式等等,達到整個應用系統的成本低性能高,達到最優的性價比。

2,之後,進入系統開發和原型驗證階段。根據芯片的框架結構,採用分立元件設計電路板,數字系統一般用 FPGA 開發平臺進行原型開發和測試驗證(常見的 FPGA 有 XILINX 和 ALTERA兩個品牌,我公司用的是 XILINX)。,

3,模擬芯片的設計,驗證手段主要是根據工藝廠提供的參數模型來仿真,最終能達到的性能指標只能通過真實的投片,進行驗證設計;而數字系統設計一般可通過計算機仿真和 FPGA系統,進行充分的設計驗證,然後可以直接投片。因此數模混合的芯片產品開發,一般需要模擬模塊先投片驗證,性能指標測試通過後,然後再進行整體投片。

4,系統開發和原型驗證通過後,就進入芯片版圖的設計實現階段,就是數字後端、與模擬版圖拼接。版圖設計過程中,要進行設計驗證,包括 DRC、LVS、ANT、後仿真等等。芯片版圖通過各種仿真驗證後就可以生成GDS文件,發給代工廠(或者製版廠),就是常說的 tapeout了。

5,代工廠數據處理,拿到 GDS 數據後,需要再次進行 DRC 檢查,然後數據處理,版層運算,填充測試圖形等操作,之後發給製版廠開始製版。,6,製版完成後,光刻版交給代工廠就可以進行圓片加工了。

7,圓片加工完成後,送至中測廠進行中測,也叫晶圓測試(Chip Test,簡稱 CP)。中測完成,圓片上打點標記失效的管芯,交給封裝廠。

8,封裝廠進行圓片減薄、貼膜、劃片、粘片、打線、注塑、切金、烘乾、鍍錫等等操作後,封裝完成。目前封裝技術比較成熟,常見封裝良率在 99.5%以上,甚至 99.9%以上。

9,芯片有些功能和性能在中測時無法檢驗的,需要進行成測(Final Test,簡稱 FT)。

10,成測完成的芯片,即可入產品庫,轉入市場銷售了。

11,芯片的研發過程,是一個多次循環迭代的過程。測試驗證過程中發現問題,就需要返回修改設計,然後再次測試驗證;後端版圖實現過程中,如果時序、功耗、面積、後仿真等通不過,也可能要返回原始設計進行修改;芯片投片出來後,測試性能指標和可靠性達不到設計要求,需要分析定位問題,修改設計,再次投片驗證,等等。

12,芯片研發環節多,投入大,週期長。任何一個細節考慮不到或者出錯,都有可能導致投片失敗;技術研發充滿了不確定性,可能導致時間拖延及投片失敗。因此,一個成熟產品的研發,可能需要多次的投片驗證,導致週期很長。

13,現在芯片設計的規模比較大,系統複雜,為了減小投片風險,系統設計和測試驗證的工作十分重要,一方面依靠強大的 EDA 工具,另一方面依靠經驗和人員時間投入。

14,芯片轉入量產後,如果成品率不穩定或低於預期,需要與代工廠分析原因,進行工藝參數調整,多次實驗後,找到最穩定的工藝窗口,提高芯片的可靠性和良率,降低成本。

IC 研發生產全流程示意圖

芯片製造基礎知識:芯片研發過程介紹

IC 研發生產全流程示意圖

常見的芯片投片方式說明

芯片常用投片方式有工程批(FULLMASK)和多項目晶圓(Multi Project Wafer,簡稱 MPW)兩種方式。

隨著製造工藝水平的提高,在生產線上製造芯片的費用不斷上漲,一次 0.6 微米工藝的工程批生產費用就要 20-30 萬元,而一次 0.18 微米工藝的工程批生產費用則需要 60-120 萬元,如果採用高階工藝,試驗片成本更會呈幾何倍數提高。如果設計中存在問題,那麼製造出來的所有芯片將全部報廢。MPW 就是將多個具有相同工藝的集成電路設計放在同一晶圓片上流片,流片後,每個設計品種可以得到幾十片芯片樣品,這一數量對於設計開發階段的實驗、測試已經足夠。而實驗費用就由所有參加 MPW 的項目按照芯片面積分攤,成本僅為工程批的 10%-20%,極大地降低新產品開發成本和開發風險。MPW 一般由工藝廠組織,每年定期有班次。雖 MPW 降低了集成電路研發階段的費用門檻,但也伴隨著一些投片靈活度低、生產週期長、單位面積有限制等制約因素。

具體的投片方式,需要根據設計成功率、資金預算、時間週期來具體選擇。兩種投票方式對比表:


芯片製造基礎知識:芯片研發過程介紹


分享到:


相關文章: