大家都知道，只要一說起臺積電，大家也都非常的熟悉。它是全球芯片代工領域當之無愧的龍頭企業，特別是在高端的芯片製造領域，可以說在部分製造技術上一直都是壟斷地位，事實上臺積電之所以在芯片製造領域能夠做的如此出色，很大程度上也是得到了ASML高端光刻機設備的支持。要知道在整個芯片的製造流程中，光刻機的光刻部分幾乎佔到了一半。顯然這就不難看出一臺光刻機對於芯片的製造是多麼的重要了。但是目前在全球的光刻機設備領域中，我國自主研發的光刻機依舊是比較落後的，目前的最厲害的還停留在90nm的芯片製造水平，這個水平是全球最低端的芯片製造水平了。
但是就在近日，我國光刻機研究終於傳來了好消息，國內企業正在攻關65nm工藝的光刻機設備，目前已經取得了一定的進展，這意味著我國的光刻機設備也即將進入到中端市場領域，迎來了新突破，隨著國產光刻機分辨率的提高，從90nm進入到65nm時代，也將會進一步縮小我們與ASML之間的差距。
但實際上，即便是國產光刻機能夠攻克65nm技術難題，成功量產65nm光科技設備，但要知道我們國產光刻機目前依舊還是處於嚴重落後的地步，當然針對這種現象，實際上與我們在光刻機設備研發起步時間、技術、人才等等方面，也是有著直接的關聯，例如在光刻機技術研發上起步較晚，同時還遭到了西方國家的技術封鎖，在關鍵技術人才方面的積累較少等等，綜合之下，也就直接造就了國產光刻機技術長期處於落後的態勢之中。
而起步較早的ASML在光刻機設備領域，在2004年全球芯片製造工藝都進入到了全新的瓶頸期，而作為全球知名的芯片代工企業，為了能夠進一步尋求突破，所以也是聯合了ASML，製造了一臺以水為介質的光刻機設備，相對比過往以空氣為介質的光刻機設備，在分辨率方面也是有著更加優異的表現，所以ASML也憑藉這種以水為介質的浸潤式光刻機設備，成為了全球最強的芯片設備製造企業，一舉打敗了當時日本尼康、佳能等知名企業，而臺積電方面自然也是得到了ASML更多的關照，後來也直接奠定了臺積電在芯片代工領域的霸主地位。
從ASML、臺積電的發展軌跡，我們也不難看出，其實在光刻機設備、芯片代工企業之間，也是存在一種相互促進的作用，光刻機設備廠商通過與芯片製造廠商的深度合作，在芯片製造工藝、技術等方面，無疑也將會有更優的解決方案，所以看到這裡，大家也就不難理解，為何國產高端光刻機設備技術會長期處於落後，很大程度上也是與國內沒有先進的芯片製造企業有著很大的關聯。
寫在最後：隨和中芯國際的不斷突破，不斷地縮小與臺積電、三星之間的差距，未來或許也將會直接複製ASML、臺積電這種“成功模式”，讓國產光刻機以及芯片製造水平都得到極大的提升，讓國產芯片實現真正的崛起。
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