担忧产能不足
全球晶圆代工龙头台积电今年1月召开的法说会提到，7纳米及先进制程产能供不应求，加上今年正式量产5纳米制程，2020年资本支出预估将介于150~160亿美元之间，有望带动相关厂商业绩成长。
ASML研发新一代机器
对此，给台积电7纳米极紫外光（EUV）光刻设备供货的荷兰厂商艾司摩尔（ASML），也为了符合3纳米制程需求，正在研发新一代EUV机台。
先进制程收益大
据台积电公布2019年第四季财务报告来看，7纳米制程出货占该季晶圆销售金额35%，10纳米制程占1%，16纳米制程占20%，先进制程（包含16纳米及更先进制程）的营收达到全季晶圆销售金额的56%。
台积电财务长暨发言人黄仁昭提到，受惠于客户对7纳米技术之高端智能型手机、5G的初始布建、以及高效能运算相关应用的强劲需求，尽管受到行动装置产品的季节性因素影响，仍受惠台积电2020年首季业绩表现。
台积电先前新闻稿也指出，该公司以7纳米EUV微影技术的强效版制程（N7+），协助助客户产品大量进入市场，N7+奠基于台积电成功的7纳米制程之上，N7+同时也是台积电史上量产速度最快的制程之一，有此可见，ASML提供的EUV机台成为各大半导体厂商生产关键。
ASML陆续推出先进光刻机
据外电报道，ASML打算研发新一代的EUV机台，目前该公司出货的型号为NXE:3400B，以及进化版的NXE:3400C，分别主要支持7 纳米及 5 纳米制程。
随着台积电与竞争对手三星持续竞争，ASML先前公布2019年第四季财报显示，ASML就出货 8 台 EUV机台，并收到 9 台EUV机台订单，全年出货26台、达62 亿欧元，订单比前一年成长40%以上，EUV机台营收比重也成长至31%、年增34%。预计在2020年，5纳米制程需求下，将交付35 台机台。
若照这进程持续，2021 年将提高到45~50 台，并针对3纳米、2纳米制程需求，正在规划新一代EUV光刻设备EXE:5000，预计最快在 2021年问世，2022 年或 2023 年才能量产交付客户。ASML的研发时程，也与台积电、三星推出先进制程时程大致相符，等待台积电3纳米新竹宝山厂顺利完工后，将有机会引进ASML最新光刻设备进驻，生产更先进制程的芯片。
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