擔憂產能不足
全球晶圓代工龍頭臺積電今年1月召開的法說會提到，7納米及先進製程產能供不應求，加上今年正式量產5納米制程，2020年資本支出預估將介於150~160億美元之間，有望帶動相關廠商業績成長。
ASML研發新一代機器
對此，給臺積電7納米極紫外光（EUV）光刻設備供貨的荷蘭廠商艾司摩爾（ASML），也為了符合3納米制程需求，正在研發新一代EUV機臺。
先進製程收益大
據臺積電公佈2019年第四季財務報告來看，7納米制程出貨佔該季晶圓銷售金額35%，10納米制程佔1%，16納米制程佔20%，先進製程（包含16納米及更先進製程）的營收達到全季晶圓銷售金額的56%。
臺積電財務長暨發言人黃仁昭提到，受惠於客戶對7納米技術之高端智能型手機、5G的初始布建、以及高效能運算相關應用的強勁需求，儘管受到行動裝置產品的季節性因素影響，仍受惠臺積電2020年首季業績表現。
臺積電先前新聞稿也指出，該公司以7納米EUV微影技術的強效版製程（N7+），協助助客戶產品大量進入市場，N7+奠基於臺積電成功的7納米制程之上，N7+同時也是臺積電史上量產速度最快的製程之一，有此可見，ASML提供的EUV機臺成為各大半導體廠商生產關鍵。
ASML陸續推出先進光刻機
據外電報道，ASML打算研發新一代的EUV機臺，目前該公司出貨的型號為NXE:3400B，以及進化版的NXE:3400C，分別主要支持7 納米及 5 納米制程。
隨著臺積電與競爭對手三星持續競爭，ASML先前公佈2019年第四季財報顯示，ASML就出貨 8 臺 EUV機臺，並收到 9 臺EUV機臺訂單，全年出貨26臺、達62 億歐元，訂單比前一年成長40%以上，EUV機臺營收比重也成長至31%、年增34%。預計在2020年，5納米制程需求下，將交付35 臺機臺。
若照這進程持續，2021 年將提高到45~50 臺，並針對3納米、2納米制程需求，正在規劃新一代EUV光刻設備EXE:5000，預計最快在 2021年問世，2022 年或 2023 年才能量產交付客戶。ASML的研發時程，也與臺積電、三星推出先進製程時程大致相符，等待臺積電3納米新竹寶山廠順利完工後，將有機會引進ASML最新光刻設備進駐，生產更先進製程的芯片。
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