培训厮老房
光刻机集人类智慧于大成，一台顶级光刻机的关键零部件来自不同的西方国家，德国的镜头、美国的光栅、瑞典的轴承、法国的阀件等等，最麻烦的这些顶级的零件对我国是禁运的。可以说我国的光刻机与荷兰ASML光刻机的差距，客观上反映了我国与西方在精密制造领域的差距。
我国的光刻机
我国的光刻机起步较晚，同时还遭遇了西方国家的技术封锁，所以目前制造出来的光刻机主要集中于65nm及其以下的工艺。
目前，我国生产光刻机的企业是上海微电子，成立于2002年，可以量产制程工艺为65nm的光刻机，距离ASML的7nm EUV光刻机还有很远的距离，而且光刻机技术无法实现跳跃。
上海微电子也是一家系统集成商，自己并不生产关键零部件，做不出高端光刻机也不是它的责任。现在也只能做好中低端光刻机，慢慢培养国内的零部件商，一点一点往上做。
荷兰AMSL光刻机
目前，光刻机的老大是荷兰的ASML，垄断了高达80%的市场份额，最先进的EUV光刻机全球也只有ASML能够生产。
AMSL光刻机90%的零部件向外采购，整个设备的不同部位同时获得了世界商最先进的技术，德国的光学设备、美国的计量设备和光源，ASML要做的是精密控制。7nm EUV光刻机有13个系统，3万个分件，每个动作都要精细，将误差分散到这13个系统中。
荷兰的AMSL还有一个独特的合作模式，只有投资了ASML才能获得优先供货权，而台积电、三星、海力士、英特尔都是ASML的股东，大半个半导体行业都是ASML的合作伙伴，形成了庞大的利益共同体。
中芯国际
我国的中芯国际，已经突破了N+1工艺制程，性能接近7nm，高端光刻机仍然来自于荷兰的ASML。
早在2018年，中芯国际就从ASML成功预定了一台7nm EUV光刻机，但是先是因为失火推迟发货，后是因为美国方面的阻挠，2020年了，仍然没有收到这台7nm EUV光刻机。
总之，高端光刻机集人类智慧与大成，单靠任何一家企业是无法完成的。由于很多原因，很多精密仪器、高精尖的设备对我国是禁运的，只有慢慢培养国内零部件厂商，一点一点往上走。
Geek视界
很遗憾的告诉题主，没有一家中国公司可以解光刻机之围，并且未来很长一段时间将保持这种状态。我来简单说说我国当前光刻机的现状吧！
1、光刻机需要先进系统制造商
我国目前生产光刻机的系统制造商有几家，比如无锡影速、合肥芯硕、先腾光电、上海微电子，当前能生产最先进光刻机的系统制造商是上海微电子，量产机型能实现90nm制程工艺，其他厂商的技术还停留在200nm，乃至800nm~1500nm，是不是很吃惊？要知道荷兰ASML最先进EUV光刻机的工艺达到了7nm，而我们最好的还只是90nm。
我国光刻机在全球范围内来说，技术处于低端领域，中端市场目前被日系厂商尼康佳能所占据。在技术落后两三代的情况下基本没可能，要求上海微电子短期内实现跨越式成长，从低端赶上中端，然后再全力超过荷兰ASML几乎是不可能的。
因此，单从系统制造商这个层面来说，现在的上海微电子无法解决我国缺乏先进光刻机的困扰。
2、光刻机仅有系统制造商不行
光刻机是一个非常复杂的设备，单就上海微电子产的光刻机就有几万个配件，想要实现光刻机技术的飞跃，各个核心子系统的制造商不可或缺，没有他们生产出给力的核心部件，上海微电子就是巧妇难为无米之炊。
就拿光刻机两个核心子系统光源、双工件台来说，目前国内水平有突破，比如上海微电子光刻机使用的镜头和光源由长春光机研发，之前该机构研发的“极紫外光刻关键技术研究”获得验收，可以实现32nm线宽的EUV光刻。而由清华大学领衔的工件台研发也取得了不错的成绩，目前我国能制造出双工件台，是ASML之后唯一的一家，这机器现在可以应用于65nm及以下节点是光刻机。
你看，如果说没有长春光机和清华的研发，上海微电子光刻机的核心子系统就没法得到提升，其制造出的光刻机也就没法拥有更好的制程。但以上只是光刻机中的两个子系统，还有更多的子系统和配件，如果说其他配件或者子系统供应商技术上不去，那我国光刻机的整体水平依旧上不去。
事实上荷兰ASML的光刻机能做成，很重要一条因素就是能在全球拿到最好的配件，源自美国的光源，德国蔡司提供的最好镜头，光学器件采购自日本厂商，法国瑞段的阀件轴承等等。
Lscssh科技官观点：
综合来说，光刻机是一个系统工程，是各个领域技术的集大成者，不仅需要类似ASML这样系统制造商，还需要类似长春光机这样的各个配件供应商或者研发机构一同努力，只有整个光刻机产业链一同发展一同取得进步，我国光刻机才可能有快速的发展，其中任何一家拖后腿都可能影响到我国光刻机的研发。
因此，没有一家中国公司可以解光刻机之围，只有靠举国之力才可能研发出最先进的光刻机。
Lscssh科技官
感谢您的阅读！
中芯国际的N＋1技术的出现，让我们对于7nm光刻机似乎就不再担心了。因为有消息称，N+1 技术已经可以接近7nm工艺了，甚至可以取代7nm工艺了。这种说法确实有点夸大，虽然我们也知道，它的性能提升 20% 的同时降低 57% 的功耗、并将逻辑面积减少了 63%。
让我很遗憾的告诉你，虽然它确实提升了性能。可是，它和真正的7nm工艺还是有一段不小的距离，
其实，中芯国际已经非常杰熟练的掌握了14nmFinFET 制程工艺的量产，而中芯国际最新研发出了N+1和N+2工艺，也在不断的缩小我们在技术方面，和国际社会的差异。可是，光刻机领域，我们还是和ASML有一定的差异性。
- 来自于外国技术的封锁，特别是ASML，它的技术一直是藏着掖着的，即使中芯国际已经获得了它的7nm 光刻机，但并非是最先进的技术。
- 来自于瓦纳森协议，这项协议确实禁止我们在一些技术上面使用外国技术，特别是特别是光刻机方面的技术，我们确实处于被协议制约。
- ASML的模式我们学不来，一方面它将所有的主要设备厂商作为它的股东，比如说台积电，三星等等；另外一方面它将世界上所有的最先进技术引入到光刻机中。这种模式，我们很难学习。
确实我们寄希望于上海微电子，但是它的技术目前是90nm光刻机——
可是我们也不需要妄自菲薄。我觉得像中科院等一些国内研究光刻机的机构，他们一定会通过其他的途径，解决光刻机的问题，绕过技术方面的壁垒，带来全新的技术升级。
LeoGo科技
中一光学！哪天中一光学镜头市场份额超过尼康佳能，就有希望！你们觉得什么时候做得到？连光学技术都没达到尼康徍能水平，怎样去叫板蔡司和徕卡？手机镜头厂技术不管用！
光学技术能达到蔡司徕卡水平，不到世界第一，世界第二也跑不掉！
紫水晶9795
如果按照光刻机的发展，我可以负责任的告诉你，永远没有可能！因为光刻机是集所有欧美最新最顶级技术大成的产品，我们国家不可能在任何领域都超越别人！但是现在科技日新月异，难保不会出现新的纳米技术让我们弯道超车！就好像现在的5G，已经和以前的通信技术完全不同，所以科技才是第一生产力！我相信我们国家终会登顶世界之巅！
执剑人章北海
我第一个回答一下:
光刻机是一项庞大的系统过程，最新的EUV光刻机一台就具有10万零部件以上，重达180吨。
虽然大家都知道目前EUV光刻机是由ASML制造提供的，但是ASML也主要是作为一个EUV系统集成整合提供商，虽然ASML也拥有非常多关键技术。
这里讲一下EUV系统主要的三大供应商，
荷兰ASML,系统整合
德国Zeiss，光学镜头系统
德国Trumpf，激光等离子发生器
这三家企业都是各自领域内的全球性巨头。
这还只是最主要的三家企业，对于需要全球最优秀的企业一起合作才能搞定的EUV系统，
你会觉得中国有哪家企业或是机构可以搞定吗？
无论是中国最强科技企业（华为）还是最大科研机构（中科院）都无法搞定，只有全国之力才有点机会
集成电路科普者
光刻机按级别应属于大国重器行列，在没有很多顶尖配套公司辅助的前提下，需要从国家层面解决问题！世上无难事！
国际庄环保践行者
聚全国之力，在中国轻而易举。关键问题有几家企业的技术能够达到要求。上海中微公司号称中国最先进光刻机生产公司 但生产的是90nm，离5nm还很远，更别说2nm了。当下我们应该是两条腿走路，一是继续研制，二是向荷兰施压 ，既然签了光刻机买卖合同，就必须执行，欠债还钱，天经地义。毛主席说，打痛了帝国主义，他就会老老实实，服服帖帖。别忘了，不可一世的美帝国主义，在板门店不也乖乖的在停战协议上签字了吗😊
日出佛晓
近期难有中国公司突破。想象看看发动机，我们都奋斗了这么久，还没根本性解决。更别说光刻机了。
瑶池枫桥
不出五年中国就可自产，像当初手机刚出现不是一样说的神乎其神，如今被中国全面攻破完全自产。相信中国，相信有智慧的中国人民，光刻机我们十年左右可超荷兰。中国必胜！
