“神兽”光刻机之战,大胆猜测哪一家中国公司能够解光刻机之围?

培训厮老房


很遗憾的告诉题主,没有一家中国公司可以解光刻机之围,并且未来很长一段时间将保持这种状态。我来简单说说我国当前光刻机的现状吧!

1、光刻机需要先进系统制造商

我国目前生产光刻机的系统制造商有几家,比如无锡影速、合肥芯硕、先腾光电、上海微电子,当前能生产最先进光刻机的系统制造商是上海微电子,量产机型能实现90nm制程工艺,其他厂商的技术还停留在200nm,乃至800nm~1500nm,是不是很吃惊?要知道荷兰ASML最先进EUV光刻机的工艺达到了7nm,而我们最好的还只是90nm。

我国光刻机在全球范围内来说,技术处于低端领域,中端市场目前被日系厂商尼康佳能所占据。在技术落后两三代的情况下基本没可能,要求上海微电子短期内实现跨越式成长,从低端赶上中端,然后再全力超过荷兰ASML几乎是不可能的。

因此,单从系统制造商这个层面来说,现在的上海微电子无法解决我国缺乏先进光刻机的困扰。

2、光刻机仅有系统制造商不行

光刻机是一个非常复杂的设备,单就上海微电子产的光刻机就有几万个配件,想要实现光刻机技术的飞跃,各个核心子系统的制造商不可或缺,没有他们生产出给力的核心部件,上海微电子就是巧妇难为无米之炊。

就拿光刻机两个核心子系统光源、双工件台来说,目前国内水平有突破,比如上海微电子光刻机使用的镜头和光源由长春光机研发,之前该机构研发的“极紫外光刻关键技术研究”获得验收,可以实现32nm线宽的EUV光刻。而由清华大学领衔的工件台研发也取得了不错的成绩,目前我国能制造出双工件台,是ASML之后唯一的一家,这机器现在可以应用于65nm及以下节点是光刻机。

你看,如果说没有长春光机和清华的研发,上海微电子光刻机的核心子系统就没法得到提升,其制造出的光刻机也就没法拥有更好的制程。但以上只是光刻机中的两个子系统,还有更多的子系统和配件,如果说其他配件或者子系统供应商技术上不去,那我国光刻机的整体水平依旧上不去。

事实上荷兰ASML的光刻机能做成,很重要一条因素就是能在全球拿到最好的配件,源自美国的光源,德国蔡司提供的最好镜头,光学器件采购自日本厂商,法国瑞段的阀件轴承等等。

Lscssh科技官观点:

综合来说,光刻机是一个系统工程,是各个领域技术的集大成者,不仅需要类似ASML这样系统制造商,还需要类似长春光机这样的各个配件供应商或者研发机构一同努力,只有整个光刻机产业链一同发展一同取得进步,我国光刻机才可能有快速的发展,其中任何一家拖后腿都可能影响到我国光刻机的研发。

因此,没有一家中国公司可以解光刻机之围,只有靠举国之力才可能研发出最先进的光刻机。



Lscssh科技官


如果按照光刻机的发展,我可以负责任的告诉你,永远没有可能!因为光刻机是集所有欧美最新最顶级技术大成的产品,我们国家不可能在任何领域都超越别人!但是现在科技日新月异,难保不会出现新的纳米技术让我们弯道超车!就好像现在的5G,已经和以前的通信技术完全不同,所以科技才是第一生产力!我相信我们国家终会登顶世界之巅!


执剑人章北海


我第一个回答一下:

光刻机是一项庞大的系统过程,最新的EUV光刻机一台就具有10万零部件以上,重达180吨。

虽然大家都知道目前EUV光刻机是由ASML制造提供的,但是ASML也主要是作为一个EUV系统集成整合提供商,虽然ASML也拥有非常多关键技术。

这里讲一下EUV系统主要的三大供应商,

荷兰ASML,系统整合

德国Zeiss,光学镜头系统

德国Trumpf,激光等离子发生器

这三家企业都是各自领域内的全球性巨头。

这还只是最主要的三家企业,对于需要全球最优秀的企业一起合作才能搞定的EUV系统,

你会觉得中国有哪家企业或是机构可以搞定吗?

无论是中国最强科技企业(华为)还是最大科研机构(中科院)都无法搞定,只有全国之力才有点机会


集成电路科普者


聚全国之力,在中国轻而易举。关键问题有几家企业的技术能够达到要求。上海中微公司号称中国最先进光刻机生产公司 但生产的是90nm,离5nm还很远,更别说2nm了。当下我们应该是两条腿走路,一是继续研制,二是向荷兰施压 ,既然签了光刻机买卖合同,就必须执行,欠债还钱,天经地义。毛主席说,打痛了帝国主义,他就会老老实实,服服帖帖。别忘了,不可一世的美帝国主义,在板门店不也乖乖的在停战协议上签字了吗😊


日出佛晓


近期难有中国公司突破。想象看看发动机,我们都奋斗了这么久,还没根本性解决。更别说光刻机了。


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