相信大家对中芯国际并不陌生，此前由于美国的多方阻挠，中芯国际原本花费1.2亿美元从荷兰订购的EUV光刻机设备交付遥遥无期，外界担忧中芯国际只能徘徊在14nm左右。因为EUV光刻机是实现7nm以下先进制程工艺必不可少的设备。
但是现在好的消息是，中国半导体大厂中芯国际将于今年第四季量产14纳米并且投入7纳米的试产，预其明年也能正式量产，称不用EUV。
中芯国际已经规划了N+1、N+2制程工艺。新制程工艺N+1作为14纳米的后继者，而且性能相比14纳米性能提高了近20%，也被称为7纳米制程的开始。而且N+2制程工艺更加突出，同样被称为第二代7nm工艺。
其实台积电、三星在发展7nm工艺方面，同样发展了3种制程。中芯国际此次新制程不直接以节点命名，或许也是新思路发展7nm策略的一环。中芯表示这两种制程都不需要使用EUV光刻机就能完成。若7纳米明年真能在缺乏EUV设备的情况下顺利量产，会是个好消息。
值得注意的是中芯国际目前量产的最先进制程为第一代FinFET 14nm工艺，该工艺已经成熟产量，产能已经在逐步提升，2019年第四季度已贡献1%营收。如果有了最新的EUV光刻机，就意味着中芯国际也有了生产7nm芯片的能力，中芯国际和台积电的代差也越来越小，具有梁孟松和光刻机的中芯国际，将会越过10nm跨代研发7nm。
而现在由于美国从中作梗，中芯国际没能获得最新的7nm EUV光刻机，所以只能按照三步走，逐渐向7nm成熟工艺靠拢。大家怎么看？
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