LG 顯示（以下 LGD）通過產學合作孵化課題支援，聯手延世大學 Shim Uyeong（新材料工學科）教授團隊，開發出革新性新面板技術。研發成果刊登於國際學術期刊 Nature Communications。
根據韓媒 inews24 報道，研究團隊利用柔性透明的新型 Photo 光罩實現了超精細 Pattern，是一種全新的光刻（Photolithography）技術。此技術可應用至 LCD 和OLED製程。
圖：延世大學 Shim Uyeong 教授
光刻（Photolithography）技術是指半導體和麵板製程中，將光刻膠（Photo resist）感光液薄塗於晶圓或玻璃上，然後將繪製 Pattern 的光罩置於其上，通過照光形成電路的技術。而此電路的成型，主要取決於稱之為 Photo mask 的核心部件。
研究團隊為了克服傳統光罩的硬性特徵，開發出柔性、透明的新光罩製程，利用原有曝光設備實現了 100 分之 1 水平的數十納米單位超精細 Pattern。
超精細 Pattern 繪製出的電路是面板實現超高像素不可或缺的關鍵。而柔性材質的光罩，還可應用於曲面基板，將有助於多種形態的面板生產。
論文的共同作者 LGD Jang Giseok 博士表示：本次開發出的新光刻技術是一種可以為未來面板技術帶來巨大貢獻的種子（Seeds）技術。
LGD 是從 2015 年起進行面板產業發展‘LGD- 延世大學孵化器’項目。是一種企業和高校共同蒐集面板技術和產品相關的新概念，並從產業化角度進行企劃、研發、驗證的項目。
延世大學 Shim Uyeong 教授認為：此研發成果的主要意義在於，研發出可以克服光折射限制的光刻技術，除了平面以外，也可應用至曲面基板，期待未來可以應用到多樣化形態的元器件製程。
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