其实，实际情况是什么？据估计，许多人应该再次失望。首先让我谈谈这次的具体情况。
小编曾表示，这一突破是可喜的，但是对于高端芯片制造而言，这一突破确实不是“突破”，因为我们在这种光刻机上的突破等同于枪械。首次出现，与冷武器相比，可以看到的进步是概念和思想的进步，也是理论上的突破，但是当枪支首次出现时，冷武器的力量远不及此，但发展空间巨大，但还有很长的路要走！
因此，必须指出的是，当今，随着光刻机的发展，很多人可以第一次想到高端芯片光刻机。实际上，这一说法有很多误解。突破，高端芯片制造还有很长的路要走。其原因在于，光刻机不仅用于芯片领域。
除了芯片领域外，还有遥感成像、生化痕迹测量、特殊表面材料等领域将要应用到光刻机上，而且各个行业之间的光刻机差异很大，而这次突破性的光刻机将其用于上述大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、 Cerenkov辐射装置灯的光刻制造，并将其与芯片光刻制造进行比较。仍然有很大的不同，这就是人们热衷于突破冷水的光刻机的主要原因。看来我们确实需要保持安静，冷静，看一下光刻机的发展以及成熟的态度。 我们还有很长的路要走！
当然，这并不意味着我们的突破与芯片光刻技术无关。最重要的是提供一个好的解决方案，以解决芯片光刻中的光衍射极限。相信也可以。我们的芯片光刻技术带来了巨大的突破。
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