森泰鍍膜:真空鍍鋁有哪些有工藝要求

真空鍍鋁是在真空狀態下,將鋁金屬加熱熔融至蒸發,鋁原子凝結在高分子材料表面,形成極薄的鋁層。

真空鍍鋁要求基材表面光滑、平整、厚度均勻;挺度和摩擦係數適當;表面張力大於38Dyn/Cm2;熱性能好,經得起蒸發源的熱輻射和冷凝熱的作用;基材含水量低於0.1%。


森泰鍍膜:真空鍍鋁有哪些有工藝要求


常用的鍍鋁基材有聚酯(PET)、聚丙烯(PP)、聚酰胺(PA)、聚乙烯(PE)、聚氯乙烯(PVC)等薄膜,工藝要求;真空度不得低於103PA,以免出現褐色條紋或鋁層厚度不均現象;控制好系統張力,開啟冷卻系統,避免薄膜受熱出現拉伸變形;精確控制卷取速度(280~320m/min)、送鋁速度(0.4~0.7m/min?2mm鋁絲)及蒸發舟加熱電流,以獲得產品要求的鋁層厚度(100~300A°)。

可預先在薄膜上塗布一定乾量的底膠,並充分乾燥,再經真空鍍鋁,可提高鋁層與薄膜的結合力。

而後在鋁膜上塗布一定量的保護樹脂,防止鋁層氧化變質。經此工藝形成的鍍鋁薄膜,耐摩擦,且不易變質。


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