說道“芯片”、“半導體”、“集成電路”，就不得不提到一樣設備——
光刻機，如果說集成電路技術的發展有什麼是必需的，光刻機就是集成電路技術的發展的重中之重，集成電路技術核心技術中的核心。我們生活中一般將製造難度極大的工業產品冠以“工業皇冠上的明珠”的雅號，但如果說真正意義上的“工業皇冠上的明珠”,那麼便是：航空發動機和光刻機，最先進的航空發動機目前的市價在千萬美元量級，而最先進的光刻機目前的市價已經過億美金。
中科院光電技術研究所研製的中紫外光刻機
光刻機通又叫做掩模對準曝光機，整個光刻過程我們可以理解為在硅片表面勻膠，然後將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時“複製”到硅片上的過程。通俗的來說光刻機就是極大規模機集成電路的製造設備，其結合了光學、控制、材料、機械、測量等多個領域的高端科學技術實用研究成果。光刻機的發展水平對於整個半導體芯片的集成電路以及最終性能有著決定性的作用，可以說誰掌握了最高端的光刻技術，也就掌握了世界半導體制造業的生產格局。所以從重要程度來看，光刻機是集成電路技術其中含金量最高的部分。
晶圓光刻出複雜的結構
芯片的集成程度取決於光刻機的精度，光刻機需要達到幾十納米甚至更高的精度，光刻機的兩套核心系統——光學系統和對準系統的精度越高，可以在硅片上刻的溝槽越細小，芯片的集成度越高、計算能力就越強。
目前，世界上80%的光刻機市場被荷蘭公司佔據，而先進的光刻機技術也一直以來都掌握在極少數發達國家手中，高端光刻機也被其壟斷，而且光刻機更新換代的速度非常快，幾乎每兩年就會有新一代的光刻機出現，這對於處於發展中的我們，尤其是在光刻機的研發領域而言無疑是十分痛苦的，由於技術的封鎖壟斷和綜合科技水平的落後，就算致力於發展光刻機技術，往往花費數年研製出光刻機卻也是比國外的光刻技術晚了兩到三代的水平，如果追趕不上，這就會直接導致一個國家的整體科技領域發展要受制於人，各項科學研究更是會頻頻受阻。而且，最重要的一點，我們將除了花費高昂的價格並跪下祈求著購入先進的半導體工業設備外別無它路。想像一下，我國半導體芯片的需求量如果供不應求，那麼小到我們每天都要接觸的手機、筆記本等日常電子設備，大到與國家安全相關的導彈衛星、航天科技等高科技產品靠什麼生產運轉！
荷蘭ASML光刻機
中國正在努力追趕，雖然目前仍與國外存在技術代差——但是這不是說我們的追趕不重要，如果我們不做出來，國外就可以想怎麼賣就怎麼賣，賣不賣、賣什麼型號、賣多少錢都不由我們，而我們做出來了，即使是落後，未來也就有希望趕上，只要我們努力追趕不言放棄，我相信在未來必然會改變這種被動的局面。
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