音你而心动
这台光刻装备从商业上虽然还不能取代ASML的光刻机，但是在技术上的确是取得了不小的突破。
目前最先进的EUV光刻机可以做到7nm工艺，而国产光刻机单次曝光最高线宽分辨率可以达到22nm，结合多重曝光技术后，可以达到10nm工艺。当然，国产光刻机的水平并不是7nm和10nm的比较这么简单，我们也要了解一下它的局限和突破。
先说局限，目前这台光刻机只能加工1~4英寸的晶圆，而现在的晶圆厂很多都已经从12英寸晶圆起步，采用国产光刻机很难在商业上具有竞争力。即使是不考虑成本打算加工4英寸晶圆，很遗憾与之配套的设备目前都还没有跟上。
并且由于这台光刻机采用的是接触式光刻，一点点缺陷就会造成品质问题，所以只能做简单的线、点、光栅等部件，而对于生产芯片这件超级复杂的事情来说，目前还不可能，需要进一步的研发迭代。
再来说说突破，国产光刻机最大的突破在于没有重复走ASML的老路，而是另辟蹊径，采用了
表面等离子体（SP）光刻技术，形成了一条全新的纳米光学光刻技术路线；同时具有完全自主知识产权，为超材料/超表面、第三代光学器件、广义芯片等变革性领域的跨越式发展提供了制造工具。不仅如此，目前ASML的顶级EUV光刻机用的是13.5nm的极紫外光源，它的成本极高，一个就要3000万元人民币（还必须要在真空下使用），以至于荷兰ASML独家垄断的EUV光刻机创造了“一台卖一亿美金”的神话。
而国产光刻机采用的是传统的365nm汞灯做光源，一只费用仅为数万元，光刻机整机价格在百万元至千万元级别，成本大大降低，绝对是一个了不起的技术突破。
所以我们有理由乐观地期待，国产光刻机在进行若干次技术迭代后可以逐步赶上、甚至替代ASML的光刻机，作为国产芯片制造的核心装备。
高挺观点
据光电所该项目的一个主要负责人所说，这台设备只是个原理机，跟市场上主流的ArF浸没式光刻机在视场、成品率、套刻精度以及产率等方面都没有可比性。该设备用于半导体芯片领域以替代投影光刻的可能性也是几乎没有的，但可以用于半导体芯片以外用不起投影光刻的纳米加工。这台样机设备可以对小批量、小视场（几平方毫米）、工艺层少且套刻精度低、低成品率、小衬底尺寸（4英寸以下）且产率低（每小时几片）的特殊纳米器件进行加工。
虽然这台设备只是一台原理机，在技术上还存在着局限，但对中国科研界来说的确是个重大进展。考虑到目前表面等离子体技术的水平，这台设备只可能做周期的线条和点阵，无法制作复杂的芯片所需的图形。以光电所现有的技术实力，芯片制造所需的超高精度对准技术，亦是无法实现的。所以，在短期内，这项技术是无法应用于半导体芯片制造的；现阶段的应用前景仅限光栅、光子晶体一类的周期性结构；不过这些器件本身也已相当重要，尤其在军事应用领域。
以上内容源自专业垂类媒体。
我为科技狂
什么水平？这是世界上首台用紫外线光源实现22纳米分辨率的光刻机，地位已经不能动摇了。
光刻机说白了就相当于是一个投影仪，只不过在这里光就是一把雕刻刀，将内容雕刻在要呈现的地方。这样的话如果太宽基本上就废了，但是太细又做不出来。
从这样的角度来看，这样的技术真的可以说是领先世界了，毕竟现在世界上也仅仅只有三星，英特尔还有台积电能做出。而我们仅仅用了七年的时间就完成了这样的壮举，实力不言而喻。
另一方面，光刻机的用处十分广泛，用紫外线光源做的光刻机，从资本角度来说会比世界上很多知名的光刻机技术要便宜。用起来成本更低，效果更好。
从这项科技最重要的技术层次来说，紫外线光源的光刻机技术还是领先于世界，对于现有的光刻机技术来说可以说是一次质变了。而且传统曝光现在已经满足不了科技的需求，问题暴露很多，但是世界上类似的技术都贵到了天际，并不是简简单单的就能使用，因此我们这样的技术可以说是独特的科技了。
环球科技视界
你好，目前这台光刻机能生产最高制程的芯片是10nm，而国外商用的最新技术是能生产7nm的；另外，国产光刻机只能蚀刻4寸的晶圆。荷兰ASML的光刻机由于光源好，生产的晶圆尺寸能达到12寸，大的晶圆尺寸有利于批量生产降低单位成本。
总的来说，这台国产光刻机和国外最新的技术还有差距，但是也已经很先进了，排进全球前五没问题。至于赶超，就只能寄希望于天才科学家的出现了，我们在研发新技术，别人也在研发，不是那么容易的。目前荷兰在这个领域有绝对的技术优势，美国日本尚且不能和他抗衡，何况我们。但是也不用灰心，就像坦克发动机一样，国产坦克发动机虽然落后德国MTU 30年，但已经是世界第二的水平了。
理论上讲，中国的的光刻机成熟了要比进口的更先进，即便是目前还不成熟也能进入世界高端了，排在前几名没问题。
这个光刻机，另辟蹊径很好的解决了光刻机衍射斑点问题。相对于其它公司可以用更大的波长，获得更小的衍射光斑。可以用近紫外光365的波长，达到其它公司深紫外光极，限到一百多纳米波长才能产生的效果。目前可以做到衍射在22纳米内不受影响，可以做到切割10纳米以下的线宽。也就是可以完成芯片10纳米的工艺.如果工艺再加完善，经验在丰富些。如果不考虑成本，用到国外的极限紫外光的超短波长，一定衍射更小距离，取得更极限光刻工艺……
人生科技大讲堂
这个问题得分几个方面说：
一、从制造能力上看，单次曝光能制造22nm芯片，多重曝光能制造10nm芯片，是先进水平，毕竟除了台积电、三星、英特尔、格罗方德，也没有谁了。
二、单从传统光源和控制技术上看差距不小，只有中等水平，毕竟用的只是365nm波长的紫外光，而传统光刻技术现在用于量产22nm、10nm芯片的光源是193nm波长的深紫外光，进一步则是不久后即将使用10~14nm波长的极紫外光。
三、如果从技术原理上说，那么我国这个是目前最牛的了，因为不同于传统光刻技术，这个技术通过激发表面等离子来大幅缩短波长以实现高精度光刻，理论上衍射产生的不良影响大幅下降，进一步发展将比传统光刻技术的极限更优秀，而且费用也会更低，毕竟几万十几万美元的紫外光源和上千万一个的极紫外光源成本区别大了去了，而且传统光刻更多重的曝光掩膜成本也更高的多；365nm波长的光实现单次22nm、多重曝光10nm，这是全球独一份。
心息相恋
看了不少回答/感觉文不对题的太多/在此给大家普及下有关光刻机的一些常识:
首先，因特尔三星台电的光刻机均买自于荷兰ASML;
其次，他们均在aSmL持有股份(因特15%台电5%三星3%，目前台电已于2ol5年售出其全部股票/三星于2016售出其一半股份/因特也于2017年减持至5%);
综上两点台电三星们只是拥有目前最高端光刻机的优先使用权并不是占有核心技木(因为AMSL有将机器卖给别人的权力比如克强总理就为我们中芯要到了一台7nm光刻机预订2ol9年交付)
举个票子，就像一个数学公式，奥数竞赛的冠军可以熟练使用各种公式解题但并不是能说他用来解题的公式是他发明或创立的，同理为什么目前只有台电能量产7nm也一样，三星台电因特等厂商用的是amsl生产一模一样的光刻机，只能说明台电运用原产机器的思路超群，就像我们考试一样,面对同样的试题学霸可以用已知知识(如公式等)快递给出答案甚至有多种解法而学渣呢你就是告诉他公式他也一脸懵逼不可能得出正确答案。
其三，AMSL之前的光刻机首曝光为35nm,目前最先进的极紫EUⅤ首曝光为13.5nm，而目前鼓吹的7nm是多重曝光后的结果;
其四,中科院通过验收的光刻机是其七年技术攻关结果，不是美制裁中兴后才头脑一热灵机一动就研发成功了，说明国家在十几年前就在布局了不是媒体带路党所说的鼠目寸光只求市场不管技术,顺便说一下这台光刻机在2017年已经研制成功并试产过一些芯片了(不是原理机明白？相关信息可查阅中国科技报)今年是验收通过，再说三遍是验收/验收/验收;
最后,amsL的极紫EUV首曝光达13.5nm是其近三十年(AMSL创立于1964年前身为半导体设备代理商1984于飞利浦光刻设备研发小组合作1995上市开始跨越式发展2012年引入因特三星台电战略投资三家合占约23%的股份)的技术沉积结果/是AMSL光刻设备五代机,强调一下是目前世界最最先进的光刻五代机，而中科院的光刻机首曝光达22nm/是我们国产的光刻设备一代机,再重复一遍是一代机，技术孰优孰劣一目了然！
至于有些说什么实际量产10nm要N年以后(说跟amSl一样需要多少多少设备多少多少材料等等)的说法，我也是无语了，国产Sp与荷兰amSI是两种不同技术路线，就好像把大麦和水稻一样，虽然二者都可以做成馒头和米饭来解决人们的饥饿问题,但水稻并不需要像大麦一样收割打谷脱粒磨粉变为面粉然后加水和面加碱发酵然后塑形或条状或圆形再然后上锅蒸等诸多步骤，水稻只需要收割打谷脱粒两步变为大米就可以加水煮了如果再加上高压锅等设备就是在最后的出锅时间都能与馒头一较高下，除了以上步骤差异外再加上人力资源优势那边是十个人完成大麦从收割到上锅蒸十多项事务这边是一百人完成水稻两三项成为大米并上锅煮的事务，你说最终效果会怎样？只要不是瞎子或傻子都明白！！要不你以为我们求爷爷告奶奶二十多年了AMsL就是不买给我们(就是从台湾那里花几倍价钱买个落后二代的都要被人家警告一番)现在却突发善心均许中芯国际购买了？！
三座大山81182471
魂舞大漠注意到了11月29日的消息，一内行有这样的评述，实事上，又一颗大白菜又被兔子给拱了。呵呵，我们高兴。有一门外汉却说了，这个只是实验品，用于芯片厂的我们有吗？还没有高精度镜头，也没有高精度对准技术，精度只是阿斯麦的十万分之一，可是我们看到，中芯国际订购的7纳米级EUV明年就到货了呢，噫，向来依据“瓦纳森协定”，这种光刻机可是对我严格禁止出口的，这又是怎么回事？美国挥动制裁大棒，制裁中兴，不过眼巴前发生的事呀，让我们通过实事，来戳穿一些谎言，一观实事真相如何？先来理清这位门外汉的迷雾，他说的这些，对我们来说都有了，技术上在国际上领了先，且领先不是一星半点，只是他根本不懂，人云亦云罢了。仅光电所在国际上申请的专利就有4项，其它4项已被人申请。通过研发，所可喜的是，人才队伍已是兵强马壮，技术上拨开了迷雾，已来到了一个大的突破期。光电所的精英们说了，可以保证，下一步就是弯道超车的问题。好了，下面就让我们来做番梳理。
▲名字之下。藏多少猫腻，英文不好，不关注科技者，不知ASML在我们这就叫阿斯麦，而艾司摩尔正是台湾的叫法，其台积电占有5%的股权。韩国三星3%，英特尔有15%，荷兰这家公司，不过，大国协作的产物，什么美国的光源，德国蔡司镜头等等，他们都是该公司的股东，因此成就了ASML的名头。由于很多技术突破了物理的极限，使用的名词，不为寻常百姓所熟知，突破了极限，要的是精度，芯片体积才可以造的越来越小呀。中国每突破一极限，美国为代表的西方国家，即开始对中国出口相关产品，成为规律，谁不挣钱都着急，2015年刚说要将65纳的设备给我们，今年阿斯麦就宣布，7纳的光刻机对中国一视同仁，嘻嘻，谢谢您的仁慈，谁都能听出来，中国没有的话，实事上根本不可能，不少喷子纳闷极了，我们的进步，有这么快？是的，由不得你眨下眼睛。国际上现在最先进的芯片也就是这个水平了，中兴还是回国创业吧。
▲新闻背后。光刻机是集成电路产业的一颗最璀璨的明珠，闪烁着高难问的光辉，如同航空产业的发动机一样，由于技术门槛非常之高，一般人拱不动的，日本由于收购德国亚深，掌握了深紫外光源技术和物镜技术，其尼康和佳能也能做22纳的水平，这些年还是发了些财的，所以每谈及日本芯片，总有人投去羡慕的目光。我们收不动，大约也只能自家研发，透过新闻报道，我们可以看到，我们走了一条不同的路，取得了更高的精度，有称世界首台用紫外光源实现22纳的EUV，采取多次曝光技术可以实现10纳，我们不吹，10纳以下是一个级别，所以7纳亦可有望实现之。至少打破了禁运规则，他们再想赚钱，不得不重新审定，只是手里还有吗？由此看来，人家比咱们有些人要明白，能赚则赚，这回中国先，要来几台？所以新闻说，可以达到一致的水平。年初要制裁，年底被打脸，这一掌掴出了深紫之血。
▲中国光刻。我们使用的光源，为固态深紫外，不同于阿斯麦的离子束，我们的优点比较细，可使设备小巧得多，成本还低。二看物镜的镜片，荷兰使用的是磁流变和离子束，辅之以手工，加工慢，人工成本自然就高，我们则实现了全自动。此二者都是日本根本不可能完成的。以现在的技术，产业以后，以其寿命长，产率高，可以白菜价占领14纳的市场。致于极紫外的，现在都在努力，据说0.1纳的镜片，我们已攻克，上面镀的一层原子膜，中国说是第二，无人敢讲第一。据悉日本不敌已败走，阿斯麦为此正在吭哧憋肚。年初中芯花钱买来的7纳EUV，每台1.2亿美刀，我们的量产后，不过千万级。请记住，2018年11月29日，这一天是有重大意义的，魂舞大漠去各大网站走了一遭，看到网友们无不为咱们取得的成就欢欣鼓舞。
魂舞大漠
关于这个问题很多人回答都没答到人们关心的点子上。这里我替网友问以下问题。1.这台机器是中国从原理上还是从工程样机上实现了首创，国外有没有还是有却没中国先进？2.该机自然现在还不能指望能制作芯片。第一辆火车还不如骑自行车呢。人们关心的是该机器原理上能用于芯片制造只是还不够成熟还是，原理上就不能用于芯片制造？
星空45967
第一，从光刻机体制上讲，这是创新体制，有未来领先的体制。
第二，它技术上还不算完善和成熟，需继续研发
第三，它现在的实际制作水平，还落后于荷兰传统光刻机，但是它一旦成熟起来，就会领先传统光刻机一代，前景光明，是我国芯片领域最新突破
