皇贵妃好
1、研究方向不一样。中科院的是单个高精度刻录，主要用于高精度元器件的生产，当然也可以用于芯片的研制、验证（不是大规模生产）。荷兰公司的光刻机是成像刻录，主要用于大规模生产芯片，但是不能用于单精度刻录。
2、两个光刻机的原理不一样，中科院的光刻机理论上而言更加有优越性，采用一条全新的纳米光学光刻技术路线，具有完全自主知识产权，能有效规避专利陷阱。
3、未来发展方向也不一样，相对外国用来大规模生产制造集成程度更高功耗更小的芯片，中科院的光刻设备主要用于实验室科研、军工。现阶段对于芯片的生产而言没有很大影响。
小八卦直通车
11月29日，中科院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光源实现了22纳米分辨率的光刻机。
光刻机为人所熟悉，因为它是集成电路制造业的核心角色。目前荷兰ASML公司垄断的尖端集成电路光刻机，加工极限为7纳米，光电所的光刻机分辨率为22纳米。
那么我们是不是距离ASML不远了，打破集成电路光刻机的垄断指日可待了呢？其实并不是这样的，大家千万千万不要被很多极其不负责任的媒体蒙蔽了双眼！！！！！
光刻机相当于一台投影仪，将精细的线条图案投射于感光平板，光就是一把雕刻刀。但线条精细程度有极限——不能低于光波长的一半。使用深紫外光源的光刻机是主流，其成像分辨力极限为34纳米，分辨率进一步提高要用多重曝光等技术，很昂贵。
中科院的这个项目用的是一种叫做表面等离子体光刻法（SP）的办法：金属和非金属薄膜贴合，交界面会有无序的电子；光线照射金属膜，使这些电子有序振动，产生波长短得多的电磁波 ，可用于光刻。光电所研制的光刻机，在365纳米波长光源下，单次曝光最高线宽分辨力可以达到22纳米。
看出来了吗？这是走了条不一样的路，用另一种方式产生了需要的波……
走别的路当然要付出代价，事实证明，SP方法出来的电磁波很弱，所以光刻胶得凑近了，才能刻出来。且加工精度与ASML的光刻机没法比。刻几十纳米级的芯片是没法用SP光刻机的，必须得ASML的极紫外光刻机来，注意，是极紫外光！想要产生稳定的、大功率的极紫外光，非得ASML不可！
光电所的光刻机并不是用来做芯片的，而是加工一系列纳米功能器件，包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、生化传感芯片和超表面成像器件，这对中国的遥感成像，生化痕量测量，特种表面材料等领域有重要意义。
我们的这个光刻机标志着我国掌握了超分辨光刻镜头、精密间隙检测、纳米级定位精度工件台、高深宽比刻蚀和多重图形配套光刻工艺等核心技术。虽然无法涉足集成电路领域，但这也是一项不小的成就。
《科技日报》打了个比方，说如果以此认为我们的光刻机弯道超车了，就好像说中国出了个竞走名将要超越博尔特。非常贴切，非常可笑！！！
我也看天下
先简单一点正面回答：标志着我国崛起！
由于现代网络化的普及以及各行各业（尤其是科研领域）对芯片算力的依赖，高端光刻机研发成功对我国来说是一项极其重要的突破，从此以后，在芯片领域，我国不再被其他国家扼住咽喉；其带来的巨大影响难以估量。
以下是详述（很长，干货满满，看完您绝对不吃亏）：
一、扼住我国咽喉的《瓦森纳协议》
一切还要从当年的冷战时期说起。
二战结束以后，美苏进入冷战。由于当时在美帝及其同盟眼里，苏联及其盟国都是邪恶轴心。为了防止苏方阵型发展高端武器，在美国提议下，一共十七个国家于1949年11月成立了一个叫做巴黎统筹委员会（简称巴统）的组织。这是西方发达工业国家纠集起来的一个非官方的国际机构，目的是是限制成员国向社会主义国家出口战略物资和高技术。列入禁运清单的有军事武器装备、尖端技术产品和稀有物资等三大类上万种产品。
后来随着国内形势变化，还有美国对日态度和亚洲形态的重新估量，1952年，中国被列入了巴统的管制范畴。
这就是《瓦森纳协议》的前身。
对建国初期历史有些了解的朋友可能还有印象，当时我国的大部分技术都需要苏联支援，无法从其他国家获得援助，巴统的存在就是原因之一。
后来，1994年，巴统解散；但是我国的并没有因此进入好时代。
因为，1996年，《瓦森纳协定》正式签订，其全称为《关于常规武器和两用物品及技术出口控制的瓦森纳安排》。主要目的是为了控制常规武器和高新技术贸易。
（当然，封锁对象依然是包括我国在内的一些国家）
《瓦森纳协议》严重影响着我国与其成员国之间开展的高技术国际合作。在中美高技术合作方面，美国总是从其全球安全战略考虑，并以出口限制政策为借口，严格限制高技术向我国出口。中美两国虽然在能源、环境、可持续发展等领域科技合作比较活跃，但是在航空、航天、信息、生物技术等高技术领域几乎没有合作。
可以说，在高技术领域，我国一直被《瓦森纳协议》扼住咽喉。
就拿晶圆代工来说，将时间推回到2011年，当时的全球半导体前15大设备供应商全部都是受到《瓦森纳协议》限制的，这样中芯国际就买不到最先进的制造设备，和比利时微电子研究中心（IMEC）的合作就是曲线救国的一种方式；IMEC先从ASML应用材料买设备，用完5年后符合瓦森纳协议要求就可以转卖给中芯国际，
这就是中芯国际落后的根本原因－－根本买不到新设备！Intel、三星、台积电2015年能买到ASML10NM的光刻机。而大陆的中芯国际，2015年只能买到ASML2010年生产的32NM的光刻机。5年时间对半导体来说，已经足够让市场更新换代3次了。
除了不能买到最新的设备以外，受到《瓦森纳协议》的影响，华裔工程师还不能进入到欧美等知名半导体公司的核心部门，防止技术泄露。
这种贸易和技术封锁，也是我国大力推进光刻机研究的一个重要原因之一！
如今，三星等等企业都已经可以量产7NM级别的芯片，设备采购等等全都不是问题；我国却无法买到最基础的光刻设备（在《瓦森纳协议》限制下，理论上我国如果要购买7NM级别的设备，最早也得到2023、24年左右，那还得有国家愿意卖才行），所以，只能自行研究、自己制造。
知道了《瓦森纳协议》对我国的封锁和限制，自然也就能明白高端光刻机的研发成功，首先就是标志着我国在芯片领域突破了一层限制，为我国芯片技术和产业的发展，拓宽了道路，这是最重要的一点。
虽然我国并不能因此就直接追上世界最尖端的队伍，但是从此之后，我国的芯片技术将再上一个大台阶，很可能在不久的将来，国产芯片就会强势崛起，无论是电脑，还是手机，都将大幅度降低对INTEL、AMD、高通等芯片企业的依赖性。
随之而来的，一方面是在贸易方面（尤其是芯片相关领域），可以挺直腰杆，获得更高的自由度（想想像雷军这样的老板，天天跑去高通求爷爷告奶奶的日子……）；另一方面是在实用方面，国产芯片的成本必将低于进口芯片，这将进一步推进智能化产品的普及；还有就是在科研方面，由于光刻机和芯片的解锁，很可能我国会再解锁一批高精尖产品的制造工艺，从而对科技进步产生推动，例如航空、航天、生物、信息等等领域，必将都产生推动的作用。
但是这些如果细说，那就又会是很长很长的故事了。
最后，概括一下：总之，高端光刻机的研发成功，对我国来说是一项非常非常重要的突破，将给各行各业都带来推进，其影响之大，难以想象；甚至说标志着我国终将崛起，都毫不为过。
酔语
1.对中国来说是一项重大突破，可以实现22纳米的芯片研发与生产，不会在关键时期被他人卡住。
2.目前全球光刻尖端技术是7纳米，还需要持续加速发展才能突破其中的关键技术。
3.光刻是芯片生产中的一个环节，要制造7nm芯片还要在材料、机械、电子等多个方面提升后才能实现。
sk2018
光刻机是生产芯片的设备，中国起步比较晚，与西方还有很大差距，光刻机是一个产业，就像以前街上冲印像片的商店，把你的图样加工成芯片的初期半成品，这个就叫做代工，美国这么发达的芯片产业也离不开代工。因此千万不要以为有了光刻机就有了芯片，不是一回事。
tuofuo
已经证实中科院的设备还仅是原理机，有很大的局限性，根本无法用于ic制造，不能解决中国芯片制造所面对的设备问题，不过可以应用在光栅、光子晶体之类的周期性结构产品上，比如，可以用于军事类半导体材料。
开口就乱骂人的是疯狗
该技术突破，保障了我国在基础芯片上能够保障国产化，可以有效供应国内广大的基本需求，减少进口依赖，为继续拉近了与发达国家技术的距离，保障即使在最坏的外部环境到来，能够自主自强，满足一般需求，不会在关键时刻完全卡壳！
望虔南
衷心祝贺，真诚祝福。但愿，不是幺蛾子，不是玩猫腻。
逍遥逸夫1
光刻机研究取得重大进展，但到成功应用还有很长、很长的路要走，攻克芯片加工技术何止几家、几十家研究机构在进行⋯只能一步一步来，各国都在前进，比无止境，一年一个样
得亮1
好，为科技工作者点赞。坚持下去一定能登上顶峰。毛主席教导我们说“自力更生，艰苦奋斗"，让造不如买，买不如租见鬼去吧。
