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光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。目前全世界能生产性能稳定的最高精度光刻机设备的只有阿斯麦（ASML），它是全球唯一一家成功开发EUV光刻机（极紫外线光刻机）的公司。
在2018年，中国芯片加工企业中芯国际向全球最大的芯片设备制造商——荷兰阿斯麦（ASML）订购了首台最先进的EUV光刻机，这台机器的价格高达1.2亿美元（约合7亿元人民币）。阿斯麦也被媒体称为“全球最赚钱的隐形霸主”。
阿斯麦（ASML）的总部位于荷兰，于1984年成立，原名Advanced Semiconductor Material Lithography Holding N.V.。是从飞利浦独立出来的一个半导体设备制造商。2001年更名为ASML。公司拥有员工约16500人，其中研发人员超过6000人，研发人员占比超过36%。目前阿斯麦总市值将近900亿元，在全球半导体设备商中排名第一。
阿斯麦作为世界上唯一一个能够制造EUV光刻机的厂商，并且产量极低。其全部产能早在生产之前就被预订一空。阿斯麦客户包括英特尔、三星和台积电等国际芯片巨头，EUV光刻机也将确保上述企业保持在芯片领域的领先优势。这种机器生产的芯片，将使到电子器材的速度更快，容量更大。不过，这种新型机器的问世，将使盈利大幅降低43%左右。
阿斯麦的前景还是相当可观，2018年第一季度的营业额和盈利大增，大部分只是销售传统产品（DUV）的结果，新一代产品（EUV）还没有正式登上舞台，仅完成了三台的制造。不过，在今年将生产至少20台，2019年的目标是30台。
最早的光刻机采用接触式曝光，掩模直接贴在晶圆片上来进行曝光，容易有制程污染与掩模寿命问题；后来的接近式光刻机，利用气垫在掩模和硅片之间制造微小空隙，但也影响了成像精度。一直到 80年代的扫描投影曝光，利用光学镜头来调整距离与改善成像质量，才能做到微米以下的精度。
要说阿斯麦是半导体行业的王者并不夸张。要知道，在五年前著名的摩尔定律开始失效、光刻技术停滞不前之时，正是阿斯麦的EUV光刻机研发成功，为发展几乎停滞的半导体行业带来了生机。2013年阿斯麦的EUV光刻机研发成功，使用的光源是22nm；2017年更先进的EUV光刻机研成功，使用的光源是13nm，使得7nm线宽的制程可以实现。
最近几年，阿斯麦的营收一直是处于增长态势。2012至2016年，半导体行业发展缓慢，公司的营收增速也有所放缓，增速大概在10%左右。但到了2017年公司业绩的大幅增长主要是受到下游半导体产业复苏，以储存器为代表的厂商纷纷扩产带动设备需求，以及全球范围内掀起晶圆代工厂兴建潮带动设备需求提升所致。
尽管中芯国际目前在制造工艺上仍落后于台积电等市场领导者两到三代，但购买EUV光刻机此举仍突显了该公司帮助提升中国本土半导体制造技术的雄心壮志，也保证了在最先进的光刻设备方面的供应。
为了追赶这样的落差，中芯国际不但在2017年底延揽三星电子及台积电的前高层梁孟松来担任联席首席执行长的职务，主要就是希望藉由他过去的经验，指导中芯国际在发展14纳米FinFET制程上的进程，使中芯国际的14纳米FinFET制程能在2019年达成量产的目标之外，还在2018年初宣布，将联同两大产业基金共同投资102.4亿美元，以加快14纳米及以下先进制程研发和量产计划，最终达成每月量产3.5万片的目标。
分析人士认为，如果这次采购成功，将有助于推动中国自主研发半导体生产。对于年营业额达到90亿欧元的阿斯麦公司来说，来自中国的订单占的分量很小，但这显示了一个趋势，中国要在芯片市场上扮演一个重要角色，不再依赖外来产品。
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