刻蝕設備國貨之光,中微公司2019年淨利潤倍增

本報記者 劉會玲

4月17日,中微公司披露2019年年度報告。期內,公司實現營收19.47億元,同比增長18.77%;歸屬於上市公司股東的淨利潤1.89億元,同比增長107.51%,利潤倍增。

刻蝕設備在“芯”中的重要角色

當天公司舉行了線上業績說明會,公司董事長、總經理尹志堯、董事會秘書、副總裁劉曉宇、財務負責人、副總經理陳偉文出席。

“長期以來,公司一直致力於打造具有國際競爭力的產品並進行多元化產品佈局。”尹志堯表示。在設備的研發、設計和製造中,公司重視核心技術、產品創新及知識產權保護,始終強調技術先進性、創新、差異化和服務。

提及刻蝕設備行外人可能不瞭解是什麼。60年來從電子計算機到智能手機-微觀器件加工面積縮小了一萬億倍,而半導體設備的創新和進步就是實現這個萬億倍縮小的關鍵。在這個環節中最重要的就是加工微觀結構的光刻機和等離子刻蝕機。

換言之,256G手機回到50年前,相當於5層樓?是200萬棟5層樓。1950S-128K毫米級計算機通過光刻機以及刻蝕設備對芯片微觀結構的調整縮小100萬倍相當於1980S-128K微米級集成電路元件。通過不斷的技術創新再縮小100萬倍就相當於2010S-128G納米級集成電路元件。

參股具有協同效應潛力項目

據悉,中微公司的等離子體刻蝕設備已應用在國際一線客戶從65納米到14納米、7納米和5納米的集成電路加工製造生產線及先進封裝生產線。公司的MOCVD設備在行業領先客戶的生產線上大規模投入量產,公司已成為世界排名前列的氮化鎵基LED設備製造商。

根據2019年美國半導體產業諮詢公司VLSIResearch對全球半導體設備公司的“客戶滿意度”調查和評比報告,中微公司綜合評分保持全球第三,並在芯片製造設備專業型供應商和專用芯片製造設備供應商評比中均名列第二,同時,全球晶圓製造設備商評級為五星級公司僅有五家,中微公司是其中之一。

“公司在今後的十年將採取三個維度的發展策略。公司計劃繼續通過有機生長,在不斷開發新的產品,不斷提高市場佔有率的同時,將在適當時機,通過投資、併購等外延式生長途徑,擴大產品和市場覆蓋。力爭在未來十年內,發展成為在規模上和市場佔有率上成為國際一流的半導體設備公司。”尹志堯表示。

第一個維度是從目前的等離子體刻蝕設備,擴展到化學薄膜設備,和刻蝕及薄膜有關的測試等關鍵設備。第二個維度是,擴展在泛半導體設備領域的產品,從已經開發的用於製造MEMS和CIS影像感測器的刻蝕設備、製造藍光LED的MOCVD設備,擴展到更多的微觀器件加工設備,及製造深紫外LED、Mini-LED、Micro-LED等微觀器件的設備產品。第三個維度是探索核心技術在環境保護、工業互聯網等領域,以及在國計民生上的新的應用。

據介紹,目前,中微公司同時兼顧外延性發展,子公司中微匯鏈、中微惠創在新業務拓展領域取得了積極的進展。此外,公司也參股投資了一些具有協同效應潛力的項目。

值得一提的是,公司創始人尹志堯在半導體芯片和設備產業有超過30年的行業經驗,是國際等離子體刻蝕技術發展和產業化的重要推動者之一。公司其他聯合創始人、核心技術人員和重要的技術、工程人員,包括杜志遊、倪圖強、麥仕義等各專業領域的專家,其中很多是在國際半導體設備產業耕耘數十年,為行業發展做出傑出貢獻的資深技術和管理專家。

“刻蝕是半導體生產流程的重要環節,設備國產化對於半導體國產替代不可或缺。但是刻蝕設備屬於技術高度密集型產品,目前國內外的產品技術還是有一定差距的。”香頌資本執行董事沈萌分析道。

資深投行人士王驥躍在接受《證券日報》記者採訪時表示,“中微公司的上市有利於其自身發展,也有利於國內產業發展,技術進步才能減少對外依賴,減少‘卡脖子’的事發生。”


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