光刻機在芯片領域是科技中的珠穆朗瑪峰，想攀登這個高度何談容易。
也就是說，沒有高端的光刻機，就無法生產出頂級的芯片。
一． 南大光電光刻膠獲得突破7nm
國內對於光科技的研究已經持續很長時間了。但是，在高端光刻機上還是沒能突破，就算想進口，以美國為首的西方國家，就是卡中國人的脖子。因為，中國每年光購買芯片的費用高達2000億美元。
這個市場是龐大的，所以限制中國購買光刻機也就是穩住了2000億的市場份額。
其實，在芯片製造的過程中還有一個非常重要的技術，那就是光刻機膠技術。現在傳來一個好消息：南大光電國產ARF光刻膠取得重大突破，可以用於7nm工藝。即將進入量產及銷售階段。
這就意味著，在國內光刻機技術中取得了重大突破。並且能在光刻膠市場中分一杯羹。
在之前的光刻膠市場，國內基本上是排不上號的。此次，南大光電完成突破，不僅是我們能夠佔據更大的市場，還能給予國內光科技研究的信心。
這使日本、美國始料未及。
這也正面了，即使不依賴國外的技術，國內也能辦的很好。
據公開資料顯示，在全球光刻膠市場排名前五名的公司，有四家來自於日本，一家來自於美國。可見在光刻膠市場上，日本是佔有絕對主導地位的。
二． 光刻機的製造是以頂級科技的結晶
上面說日本光刻膠技術全球領先。但是，日本也造不出光刻機。
這是因為高端光刻機是頂尖技術的複合。不是有了一種技術就行了的。
我國光科技技術現在正在研製當中。光刻機的製造是各種頂尖技術的結晶。光刻膠技術我國南大光電雖然突破了，但並不是說我們在高端光刻機上就能馬上突破的。
高端光刻機技術是我國投資巨大的項目。如果我們不能研製出高端光刻機，我國芯片製造就會處處受限制。
現在的好消息是，我國的中微電子已經研製出5nm刻蝕機，領先世界。
西方死活不賣光刻機，中國能夠自研嗎？沒有一個國家能夠單獨研製光科技。自己研究光刻機，自己製造芯片提供給華為等企業是最可靠的辦法。
我國光刻機技術也有著顯著的進步。上海微電子就掌握專利2300多項，現在已經能夠生產28nm光刻機，不久以後就能生產高端光刻機。
寫在後面：我們從南大光電突破光刻膠技術，中微電子突破5nm技術上來看，我國也能夠自主生產光刻機。從28nm 開始只是個起點。中國科學院研發的2nm炭基材料上來看，我們要把製造芯片的技術今後牢牢地掌握在自己的手中。
28nm到14nm，14nm到7nm，5nm我們離既定的目標雖然還有差距，現在差距在不斷縮小。中國人自己製造出高端光刻機的時代不遠了。
小夥伴們，你們認為呢？
