一、东京电子发展历程
1963年：创立
1964年：代理销售美国公司生产的扩散炉（Thermco Products Corp. (U.S.)）
1970年：建立日本本土生产基地，完成扩散炉国产化（diffusion furnaces）
1976年：研发出世界第一台高压氧化炉（high-pressure oxidation furnace）
1982年：开始研发离子注入设备和清洗设备（ion implantation devices and CLEAN TRACK system）
1990年：平板显示器生产设备（FPD production equipment）
1993年：涂胶显影设备（Coater/Developer）
1994年：化学气相沉积设备 single-wafer CVD system
2002年：东电半导体设备（上海）有限公司成立：物流中心
2003年：东电电子（上海）有限公司：售后服务与培训中心
2011年：东电光电半导体设备（昆山）有限公司：液晶面板制造工厂
二、近五年营收
2019年：103.38亿美元
2018年：116.39亿美元
2017年：72.03亿美元
2016年：48.61亿美元
2015年：52.48亿美元
三、员工人数
2019年：13021人
2011年：10940人
四、主要产品系列
五、TEL中国
- 东电半导体设备（上海）有限公司
- 东电电子（上海）有限公司
- 东电光电半导体设备（昆山）有限公司
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