光掩膜一般也稱光罩、掩膜版，是微電子製造中光刻工藝所使用的圖形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，並通過曝光將圖形轉印到產品基板上。光掩膜主要由兩部分組成:基板和不透光材料。
光掩膜版是半導體集成電路、顯示屏製造中圖形底片轉移用的高精密工具。據SEMI數據，光掩膜版在半導體產業原材料總成本佔比14%，僅次於大硅片（32%）。光掩模產業鏈上游廠商通過提純、合成等方式生產高純度石英錠；處於中游的精磨、塗膠、光刻等廠商對石英錠進行深加工，製成光掩膜版；最終光掩膜版在半導體和顯示器生產中得到使用。
光掩膜產業位於電子信息產業的上游，其主導產品光掩膜是下游電子元器件製造商（生產製造過程中的核心模具，起到橋樑和紐帶的作用，電子元器件製造商的產品則廣泛應用於消費電子、家電、汽車等電子產品領域。
光掩膜板的產業鏈包括：上游原材料廠商（Momentive、Heraeus、菲利華等）通過提純、合成等方式生產高純度石英錠；處於中游的半導體設備廠商（東京電子、應用材料、LamResearch、Photronics等）對石英錠進行深加工，製成光掩膜版，包括：切割、研磨、拋光、鍍鉻、塗膠等；最終光掩膜板被半導體廠商（英特爾、三星、臺積電等）以及顯示屏廠商（京東方、華星光電等）使用。作為半導體、液晶顯示器製造過程中轉移電路圖形“底片”的高精密工具，光掩膜是半導體制程中非常關鍵的一環。
2018年全球光掩膜版市場規模為40.40億美元，同比增長7.73%，預計2020年將達到42億美元，未來年均複合增速將在1.96%左右。根據摩爾定律，集成電路上可容納的元器件的數目，約每隔18-24個月便會增加一倍，性能也將提升一倍。集成電路性能與半導體制程緊密聯繫，技術升級必將帶來光掩膜版市場增量。
從國內來看，目前國內掩膜版製造商主要有路維光電和清溢光電，中科院微電子所、中國電子科技集團等科研院所內部也有自制掩膜版。國內晶圓代工廠龍頭中芯國際也有自制掩膜版業務。
國內掩膜版供需缺口逐年擴大。2011年國內掩膜版需求5.09萬平方米，國內掩膜版產量0.87萬平方米，淨進口量4.22萬平方米，2016年國內掩膜版需求7.98萬平方米，國內掩膜版產量1.69萬平方米，供需缺口達6.29萬平方米。
目前中國大陸的平板顯示行業處於快速發展期，每一代新的半導體、顯示屏產品均需要新的配套光掩膜板，更加高頻的半導體（移動互聯網、物聯網）、顯示屏（顯示技術革新、大屏化）新品推出。根據IHS統計測算，中國大陸平板顯示行業掩膜版需求量佔全球比重，從2011年的5%上升到2017年的32%。
未來隨著相關產業進一步向國內轉移，國內平板顯示行業掩膜版的需求量將持續上升，預計到2021年，中國大陸平板顯示行業掩膜版需求量全球佔比將達到56%。摩爾定律推動了光掩膜板系統發展成更加複雜的系統。中國集成電路行業快速擴張推動全球行業增長，根據《國家集成電路發展推進綱要》的規劃，我國到2020年集成電路將保持20%的年增長率。
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