隨著國家的大力扶持以及國產半導體廠商的自身努力，近兩年國內半導體芯片產業得到了迅猛發展。然而由於中國在上游的半導體制造設備領域仍處於薄弱環節，所以國內的半導體廠商的新的工藝技術的量產，仍需依賴於進口設備。特別是在先進工藝需要用到的光刻機市場，荷蘭的阿斯麥（ASML）可謂是一家獨大。而隨著國內半導體廠商的技術升級，對於高端光刻機的需求快速增長，ASML可謂是賺的盆滿缽滿。
上週三，據全球最大的光刻機制造商荷蘭的阿斯麥（ASML）證實，中國最大的晶圓代工場已向荷蘭訂購了一臺最新型的使用EUV（極紫外線）技術的光刻機，價值1.2億美元，未來可用於生產7nm工藝芯片，預計將於2019年年初交付。
上週末，國內存儲製造龍頭企業——長江存儲也迎來了自己的第一臺光刻機，同樣是由ASML供應，不過這臺機器並不是最新的EUV光刻機，而是193nm沉浸式光刻機，可用於產20-14nm工藝的3D NAND閃存晶圓，售價7200萬美元一臺。
ASML的光刻機安全降落武漢天河機場，正在卸貨中
早在今年4月11日，由紫光集團聯合國家集成電路產業投資基金、湖北集成電路業投資基金、湖北科投共同投資建設的國家存儲器基地項目芯片生產機臺正式進場安裝，這標誌著國家存儲器基地從廠房建設階段進入量產準備階段。而此次，新的光刻機的進廠，也標誌著長江存儲32層3D NAND Flash即將進入量產。
此前，在CITE2018展會上開幕式上，紫光集團董事長趙偉國就宣佈，紫光集團旗下的長江存儲32層64G 3D NAND Flash存儲器將會在2018年達成小規模量產的目標，2019年64層128G 3DNAND Flash儲器則將會進入規模研發的階段。
今天（5月21日）上午，在上海浦東新區康橋工業園南區，華虹集團旗下上海華力集成電路製造有限公司建設和營運的12英寸先進生產線建設項目（“華虹六廠”）首臺工藝設備光刻機正式進廠。
據瞭解，這臺光刻機的型號是NXT 1980Di，依然是由ASML供應。官方資料顯示，這是一臺193nm雙級沉浸式光刻機，用於10nm級（14~20nm）晶圓生產，同時它也是大陸裝備的最先進的沉浸式光刻設備。
根據官方官網資料顯示，華虹六廠是該司的第二個12英寸晶圓生產線，設計月產能4萬片，工藝技術從28nm起步，最終將具備14nm三圍工藝的高性能芯片生產能力。
從國內這三大半導體廠商開始密集採購ASML先進的光刻機設備，我們不難看出，國內的半導體產業發展已經開始進入了一個新的階段。但是我們仍然需要清楚的認識到我們在上游半導體設備領域的缺失，特別是在高端的光刻機領域的空白。
_____________________________
更多幹貨、爆料、獨家觀點，歡迎訂閱芯智訊
閱讀更多 芯智訊 的文章
